[实用新型]便于清洗的反应釜

说明书

技术领域

本实用新型属于具有内部移动元件的固定式反应器，尤其涉及一种便于清洗的反 应釜。

背景技术

反应釜即为化学反应或物理反应的容器，通过对反应釜的结构设计和参数配置， 可实现工艺要求的加热、蒸发、冷却等功能。反应釜广泛应用于石油、化工、医药及冶金等领 域，反应釜的材质一般有碳猛钢、不锈钢、镍基合金及其它复合材料等。反应釜内的反应时 间持续较长后，反应釜的内壁上会形成一层结晶层，所述结晶层若不进行清洗，将可能会影 响下一轮不同反应物之间的反应的顺利进行，因此操作人员需要时常对反应釜进行清洗。 然而，现有的反应釜通常为一个一体成型的容器，且所述一体成型的容器的体积通常比较 大，而为了反应物不溅出至反应釜外伤害旁人或保证反应釜内的气压环境的原因，反应釜 上通常只设一个较小的开口，而反应釜较大的体积及其较小的开口通常会导致清洗困难。

因此，急需一种清洗方便的反应釜。

实用新型内容

本实用新型的目的在提供一种便于清洗的反应釜。

为了达到上述目的，本实用新型的基础方案为：便于清洗的反应釜，包括反应釜本 体、搅拌轴和第一电机，所述搅拌轴同轴设置在反应釜本体内，其中，还包括升降器、滑块、 定位销和清洗单元，所述第一电机的输出轴与反应釜同轴连接在反应釜本体的底部，所述 升降器连接在搅拌轴上，所述搅拌轴和滑块上均设有与定位销相匹配的定位孔，所述清洗 单元包括刮块、搅拌轴、第一支杆和第二支杆，所述第一支杆的一端铰接在搅拌轴的下部， 另一端固定在刮块上，所述第二支杆的一端铰接在滑块上，另一端铰接在第一支杆上。

本基础方案的原理在于：第一电机转动，驱动反应釜本体转动，此时，搅拌轴对反 应釜本体内的溶剂进行搅拌混合。当反应釜需要清洗时，向下移动滑块。此时，在滑块、第一 支杆、第二支杆的协同作用下，刮块向外移动，与反应釜本体的内壁接触，定位销锁紧滑动 后，转动反应釜本体，即可将粘在反应釜本体的内壁的结晶层刮除，达到清洗的目的。同时， 驱动升降器上、下移动，从而带动刮块移动，从而调整刮块对反应釜的内壁不同位置的刮 除。

本基础方案的有益效果在于：与传统的反应釜相比，本方案中的清洗单元，一方 面，清洗单元在反应釜正常工作时，主要起搅拌作用，能使反应釜内溶液的混合程度更加均 匀；另一方面，当反应釜本体反应完毕后，调整滑块的位置，在反应釜本体转动的同时，即可 使刮块对反应釜本体的内壁进行清洗，操作方便。

方案二：此为基础方案的优选，所述清洗单元的数量为多个，且以搅拌轴中心对 称。相对于单个清洗单元，清洗的效果更好。同时，清洗单元沿搅拌轴中心对称设置，各个清 洗单元之间受力均匀，稳定性更好。

方案三：此为方案二的优选，所述清洗单元为不锈钢清洗单元。不锈钢清洗单元中 的刮块、第一支杆和第二支杆均为不锈钢制成。不锈钢不易生锈，且具有良好的耐酸、耐碱 性，使用寿命高。

方案四：此为基础方案至方案三中任一项方案的优选，还包括第二电机，所述第二 电机连接在搅拌轴与升降器之间。第一电机和第二电机可同时工作，当其中一个电机发生 故障时，依旧不会影响反应釜本体正常工作。

方案五：此为方案四的优选，所述第二电机与第一电机的转向相反。第二电机与第 二电机的转向相反，进一步加快了反应釜本体内溶液的相对速度，使得溶液混合得更加均 匀。

附图说明

图1是本实用新型便于清洗的反应釜实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面通过具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明：

说明书附图中的附图标记包括：反应釜本体10、进液口101、出液口103、第一电机 20、第二电机30、升降器40、滑块50、定位孔501、刮块61、第一支杆62、第二支杆63。