[实用新型]一种烧瓶加热套装适配器有效
| 申请号: | 201520937854.2 | 申请日: | 2015-11-23 |
| 公开(公告)号: | CN205128000U | 公开(公告)日: | 2016-04-06 |
| 发明(设计)人: | 何宇燿;苏红 | 申请(专利权)人: | 卡曼迪实验室设备有限公司 |
| 主分类号: | B01L7/00 | 分类号: | B01L7/00;B01L3/08 |
| 代理公司: | 北京康盛知识产权代理有限公司 11331 | 代理人: | 涂凤霞 |
| 地址: | 马里兰州贝塞斯达*** | 国省代码: | 马里;ML |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 烧瓶 加热 套装 适配器 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种实验室辅助装置,尤其涉及一种烧瓶加热套装适配器。
背景技术
迄今为止,在实验室圆底烧瓶加热时,主要有以下几种形式,第一种是圆 底烧瓶垫石棉网加热,第二种是使用电热套,第三种是通过油浴锅加热,第四 种是通过水浴锅加热。这些加热方式或多或少都存在很多不方便、保温性能差、 升温慢、受热不均匀、不清洁、危险等问题,针对现有技术中存在的问题,研 究设计一种圆底烧瓶加热装置,从而克服现有技术中所存在的问题是十分必要 的。
实用新型内容
本实用新型的目的就在于提供一种解决上述问题,能适应各规格圆底烧瓶 加热使用,轻便、清洁、无危险、受热均匀、升温快、保温性能好的烧瓶加热 套装适配器。
为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种烧瓶加热套装适 配器,包括适配座,所述适配座位于加热装置上,所述适配座上开设有与烧瓶 底部结构相同的凹槽,所述凹槽内设有适配套,所述适配套上表面开设有对应 烧瓶规格大小的放置槽,适配套下表面与凹槽结构相匹配。
作为优选,所述适配套的顶部与适配座顶部平齐。
作为优选,所述适配套有若干片,所述若干片适配套的体积逐级缩小,且 重叠设置于适配座的凹槽内,所述若干片适配套之间可拆卸套装,所述最小的 适配套的放置槽上设有一个适配盖。
作为优选,所述适配套为1-5片。
作为优选,所述适配座的上边缘设有把持部位。
作为优选,所述凹槽和放置槽的深度为相对应规格烧瓶直径的1/3—2/5。
作为优选,所述烧瓶为圆底烧瓶。
作为优选,所述适配套为圆弧球形。
作为优选,所述适配套采用金属铝制成。
作为优选,所述适配套表面设有经过阳极化处理的氧化保护膜。
与现有技术相比,本实用新型的优点在于:本实用新型能适应各规格烧瓶 加热使用,轻便、清洁、无危险、受热均匀、升温快、保温性能好。利用导热 性能好的金属铝,加工成符合各种规格烧瓶加热的适配套,能与磁力搅拌器搭 配使用,为复合反应提供最清洁最安全的方法,高性能且经过阳极化处理的套 装适配套能提供非常优秀的耐化学腐蚀性能,结构设计能提供很好的温度传递, 不会影响对于反应的观察或致烧瓶破碎。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型未加适配套的结构示意图:
图3为本实用新型加一片适配套的结构示意图;
图4为本实用新型加两片适配套的结构示意图。
图中:1、适配座;2、适配套;3、适配盖;4、烧瓶。
具体实施方式
下面将对本实用新型作进一步说明。
实施例:参见图1,一种烧瓶加热套装适配器,本实施例子以为圆底烧瓶4 为例子。所述适配座1位于加热装置上,所述适配座1上开设有与烧瓶4底部 结构相同的凹槽,所述凹槽内设有适配套2,所述适配套2为圆弧球形包括适配 座1,所述适配套2上表面开设有对应烧瓶4规格大小的放置槽,适配套2下表 面与凹槽结构相匹配。所述适配套2的顶部与适配座1顶部平齐,减少与外界 多余接触面,有利于烧瓶4均匀受热,所述凹槽和放置槽的深度为相对应规格 烧瓶4直径的1/3—2/5,加大烧瓶4的受热面积,加快受热,并且受热均匀, 所述适配座1的上边缘设有把持部位,方便保持。所述适配套2有若干片,所 述若干片适配套2的体积逐级缩小,且重叠设置于适配座1的凹槽内,所述若 干片适配套2之间可拆卸套装,所述最小的适配套2的放置槽上设有一个适配 盖3,适配盖3避免灰尘进入,对适配套2表面以及导热起很好的保护作用。所 述适配套2采用金属铝制成,利用导热性能好的金属铝,加工成符合各种规格 圆底烧瓶4加热的解决方案,能与磁力搅拌器搭配使用。为复合反应提供最清 洁最安全的方法,所述适配套2表面设有经过阳极化处理的氧化保护膜,高性 能且经过阳极化处理的套装适配套2能提供非常优秀的耐化学腐蚀性能,结构 设计能提供很好的温度传递,不会影响对于反应的观察或致烧瓶4破碎。
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