[实用新型]便于清洁的金属有机物化学气相沉积设备中的石墨盘有效
| 申请号： | 201520931104.4 | 申请日： | 2015-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN205223345U | 公开（公告）日： | 2016-05-11 |
| 发明（设计）人： | 丁国建;张业民;刘佩;陈宇;张荣勤;宋京 | 申请（专利权）人： | 天津中环新光科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/18 | 分类号： | C23C16/18;C23C16/44 |
| 代理公司： | 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 | 代理人： | 高凤荣 |
| 地址： | 300385 天津市西*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 便于 清洁 金属 有机物 化学 沉积 设备 中的 石墨 | ||
【权利要求书】：
1.一种便于清洁的金属有机物化学气相沉积设备中的石墨盘，设有：石墨盘，其特征在于：该石墨盘的表面设有数个凹槽，凹槽之外的地方覆盖有预埋层，预埋层上覆盖有沉积层。
2.根据权利要求1所述的便于清洁的金属有机物化学气相沉积设备中的石墨盘，其特征在于：所述石墨盘为：用于承载外延衬底圆盘状容器。
3.根据权利要求1所述的便于清洁的金属有机物化学气相沉积设备中的石墨盘，其特征在于：所述凹槽为：石墨盘表面用于放置外延片衬底的圆形凹槽。
4.根据权利要求1所述的便于清洁的金属有机物化学气相沉积设备中的石墨盘，其特征在于：所述预埋层厚度为：1-20微米。
5.根据权利要求1所述的便于清洁的金属有机物化学气相沉积设备中的石墨盘，其特征在于：所述沉积层厚度为：10-300微米。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
