[实用新型]用于真空镀膜系统的环形坩埚有效
| 申请号： | 201520920849.0 | 申请日： | 2015-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN205188413U | 公开（公告）日： | 2016-04-27 |
| 发明（设计）人： | 谢继闯 | 申请（专利权）人： | 合波光电通信科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 林松海 |
| 地址： | 314200 浙江省嘉*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 真空镀膜 系统 环形 坩埚 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于真空镀膜系统的环形坩埚，其特征是：包括环形主体（1）、水流分流板（2）、 底板（3）、冷却水导管（6）、旋转主轴（7），环形主体（1）的中心通过螺丝固定水流分流板（2）， 外圈设有氟橡胶密封圈，底板（3）通过固定螺栓（4）与固定水流分流板（2）相连压紧氟橡胶 密封圈后形成一个中空腔体为冷却水提供循环空间，然后整体固定在电机的旋转主轴（7） 上，主轴中空，内部设有冷却水导管（6）为所述中空腔体提供冷却水。
2.根据权利要求1的所述环形坩埚，其特征是：所述的环形主体1进一步设有上盖板 （5），
用于为防止蒸镀过程对固定螺栓的污染。
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