[实用新型]一种高可靠性液晶显示器有效
申请号: | 201520912009.X | 申请日: | 2015-11-16 |
公开(公告)号: | CN205103522U | 公开(公告)日: | 2016-03-23 |
发明(设计)人: | 陈绍军;毛林才 | 申请(专利权)人: | 亚世光电股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1339 |
代理公司: | 鞍山嘉讯科技专利事务所 21224 | 代理人: | 张群 |
地址: | 114031 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 可靠性 液晶显示器 | ||
技术领域
本实用新型涉及液晶显示器技术领域,尤其涉及一种对高温高湿环境耐受性要求较高的高可靠性液晶显示器。
背景技术
近年来,液晶显示器已被广泛应用于国民经济和国防安全的诸多领域,随着产品应用范围的不断扩大,对产品的可靠性要求也越来越高,但是目前LCD产品耐受高温高湿的性能还不能满足要求,从产品结构上说,此问题的瓶颈就是由于偏光片在高温高湿环境测试中工作性能不稳定造成的。
发明内容
本实用新型提供了一种高可靠性液晶显示器,采用UV胶水封闭的结构,彻底解决偏光片在高温高湿环境中容易出现的分层及失效问题,提高液晶显示器对高温高湿环境的耐受性;其结构简单,制造方便,利用现有生产设备即可进行生产。
为了达到上述目的,本实用新型采用以下技术方案实现:
一种高可靠性液晶显示器,包括由上偏光片、液晶盒及下偏光片组成的液晶显示器,其中液晶盒由自上至下依次设置的上玻璃基板、上ITO层、上PI取向层、液晶层、下PI取向层、下ITO层和下玻璃基板组成;上、下偏光片的面积分别小于上、下玻璃基板的面积;所述上偏光片与下偏光片外围通过UV胶水封闭,且UV胶水的设置范围在竖直方向以上、下偏光片外侧面为界,水平方向以上玻璃基板或下玻璃基板的四周边缘为界;上、下偏光片外侧面设偏光片保护膜。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1)采用UV胶水封闭的结构,彻底解决偏光片在高温高湿环境中容易出现的分层及失效问题,提高液晶显示器对高温高湿环境的耐受性;
2)结构简单,制造方便,利用现有生产设备即可进行生产,几乎不增加生产成本。
附图说明
图1是本实用新型所述高可靠性液晶显示器的结构示意图。
图2是本实用新型所述UV胶水涂敷范围示意图。
图中:1.上偏光片2.液晶盒21.上玻璃基板22.上PI取向层23.液晶层24.下PI取向层25.下玻璃基板26.衬垫料27.液晶28.边框胶3.下偏光片4.UV胶水
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步说明:
见图1,是本实用新型的结构示意图。本实用新型一种高可靠性液晶显示器,包括由上偏光片1、液晶盒2及下偏光片3组成的液晶显示器,其中液晶盒2由自上至下依次设置的上玻璃基板21、上ITO层、上PI取向层22、液晶层23、下PI取向层24、下ITO层和下玻璃基板25组成;上、下偏光片1、3的面积分别小于上、下玻璃基板21、25的面积;所述上偏光片1与下偏光片3外围通过UV胶水4封闭,且UV胶水4的设置范围在竖直方向以上、下偏光片1、3外侧面为界,水平方向以上玻璃基板21或下玻璃基板25的四周边缘为界;上、下偏光片1、3外侧面设偏光片保护膜。(如图2所示)
本实用新型一种高可靠性液晶显示器的制造工艺如下:
1)按常规的LCD生产流程:ITO基板--曝光--刻蚀--摩擦--丝印--合盒固化—液晶灌注--封口--清洗--光电检--贴偏光片,制作LCD产品;
2)制作完成LCD产品后,在单粒LCD的上偏光片1外围通过涂敷UV胶水4进行封闭;选用与偏光片1、3具有合适亲润性的UV胶水,涂敷UV胶水4时,沿上偏光片1周围均匀下胶,使UV胶水4自然流淌到上玻璃基板21上,并通过控制下胶量保证UV胶水4的高度不超过上偏光片1的上侧面,宽度不超过上玻璃基板21的外侧边缘;待已涂敷的UV胶水4初步凝固后,将LCD产品经UV炉进行固化;
3)单面涂胶固化后的单粒LCD上下面翻转,按与步骤2)相同方法将下偏光片3的外围通过涂敷UV胶水4进行封闭,待已涂敷的UV胶水4初步凝固后,再将LCD产品经UV炉进行固化;
4)在上、下偏光片1、3外侧面分别粘贴偏光片保护膜。
本实用新型中,所选用的UV胶水4需要和偏光片1、3有合适的亲润性,同时通过控制下胶量,使UV胶水4不能流到偏光片1、3和偏光片保护膜之间。
本实用新型中的液晶层23以衬垫料26作为骨架,周围填充液晶27形成,液晶层23通过边框胶28封闭在上PI取向层22与下PI取向层24之间。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
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