[实用新型]一种真空中样品台的二维调节装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种金属屏蔽罩，具体涉及一种锥形金属短管荧光屏屏蔽罩。

背景技术

PLD的系统设备简单，相反，它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及最后的膜生成过程。所以，PLD一般可以分为以下四个阶段：1.激光辐射与靶的相互作用；2.熔化物质的动态；3.熔化物质在基片的沉积；4.薄膜在基片表面的成核(nucleation)与生成。所以，在沉积的过程中样品的位置很重要，很难一步到位将样品固定在一个固定的位置。

实用新型内容

本实用新型目的是，针对现有技术存在的问题，本实用新型提供一种可以对真空中的样品进行二维微调节的调节机构。

本实用新型的技术方案是，真空中样品台的二维调节装置，样品台由样品架固定置于柔性波纹管内，样品架的样品杆穿过柔性波纹管并固定在柔性波纹管的两端法兰，两端法兰分别装置在柔性波纹管上的两端，设有两个固定板分别固定在柔性波纹管两端的法兰上，两端的法兰各固定一个固定板；两个固定板之间且在柔性波纹管的上下位置用两个耳板连接；两个固定板之间用两个耳板连接；每个耳板分别用第一微型调节器和第二微型调节器的活络端顶住，第一微型调节器和第二微型调节器分别固定在两个固定架上。

进一步，第一微型调节器和第二微型调节器的活络端伸出方向互相垂直。

第一微型调节器和第二微型调节器的活络端伸出方向互相垂直。

两个固定板之间通过两个耳板相连接。每个耳板各用一个微型调节器顶住，通过控制微型调节器的前进和后退来调节两个CF35法兰之间的相对位置，从而调节样品台在腔体中的位置。对样品台进行二维微型调节的调节机构。

本实用新型的有益效果：PLD的系统在真空沉积的过程中，样品的位置很重要，可以一步到位将样品调节固定在一个固定的位置。本实用新型可以对真空中的样品台进行两个维度进行微调节的调节机构。调节机构方便简明。

附图说明

图1为本实用新型的二维调节机构的结构使用说明图。

图2是图1中左端法兰安装第二微型调节器9的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

本实用新型的实施方式：如图所示，波纹管1、两端的两只法兰2、3、两块耳板4、5、两块固定板6、7、第一微型调节器8、第二微型调节器9。样品台由样品架固定置于柔性波纹管内，样品架的样品杆穿过柔性波纹管并固定在柔性波纹管的两端法兰，两端法兰分别装置在柔性波纹管上的两端，设有两个固定板分别固定在柔性波纹管两端的CF35法兰上两端的法兰上各固定一个固定板。两个固定板之间用两个耳板连接，每个耳板各用一个微型调节器顶住，微型调节器固定在两个固定架上。通过旋转微型调节器来推进或放松耳板来调节两个CF35法兰的相对位置从而调节样品的位置。将两个固定板分别装在两头是CF35法兰的波纹管的法兰上，两个固定板之间通过两个耳板连接，每一个耳板各用一个微型螺旋调节器顶住。

第一微型调节器和第二微型调节器均装在左端法兰2上，图2中左端法兰安装第二微型调节器9的结构示意图；图1中左端法兰安装第一微型调节器8安装结构。第一微型调节器和第二微型调节器的活络端伸出方向互相垂直。

通过旋转微型调节器(具有螺旋结构)来推进或放松耳板来调节两个CF35法兰的相对位置，从而起到调节样品的位置的作用。如第一微型调节器可以控制样品在水平方向上的摆动，则第二微型调节器可以控制样品在竖直方向上的摆动。

虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本实用新型。本实用新型所属技术领域具有通常知识者，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作各种更改和润饰，但不超出本实用新型范围。