[实用新型]溅射镀膜旋转靶材绑定的内部加热器

说明书

技术领域

本实用新型涉及溅射镀膜设备的靶材辅助加热装置结构改进技术，尤其是溅射镀膜旋转靶材绑定的内部加热器。

背景技术

由于电子薄膜、光学薄膜、光电薄膜、磁性薄膜和超导薄膜等在高新技术和工业上的大规模开发应用，靶材已经逐渐发展成为一个专业化产业，随着薄膜技术的不断发展，靶材市场将进一步扩大。

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用,因此,对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加。近年来,随着我国电子信息产业飞速发展,在集成电路、光盘及显示器等领域,中国已逐渐成为了世界上薄膜靶材的最大需求地区之一。

随着技术的进步，靶材的设计逐渐由平面靶材向旋转靶材过渡，因为旋转靶材的材料利用率可以达到80％，而一般平面靶材利用率只能达到30％；旋转耙材在使用过程中不断旋转，耙材表面可以保持光滑，不会产生“结瘤”俗称“靶材中毒”，可以保障成膜的均匀性，减少缺陷，提高成品率。期望通过使用旋转靶材达到降低成本、提高膜层质量和提高成品率的目的。

部分旋转靶材采用贴合的方法制备，把靶材分节绑定在金属衬管上，以提高导热性能和强度。目前旋转靶材绑定的工艺是，把单节靶管绑定在金属衬管上，靶管和金属衬管之间通过低熔点的金属焊料粘接。在绑定的过程中，需要对金属衬管和靶管进行预热，然后把低熔点的金属焊料填充到靶管和金属衬管的缝隙里。绑定的质量直接关系到靶材溅射过程中的导热效果，若导热不好，金属焊料将会熔化流出或者靶管会局部熔化或开裂。在绑定工艺过程中，靶管和衬管加热的均匀性和稳定性对贴合质量具有重要的影响。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供溅射镀膜旋转靶材绑定的内部加热器，以开发一种旋转靶材绑定的内部加热器，达到加热快速均匀，而且温度稳定的效果。

本实用新型的目的将通过以下技术措施来实现：包括低熔点金属填料、加热管、外管和内管；外管内部安装内管，而且在内管之中安装加热管，在外管和内管之间有低熔点金属填料。

尤其是，加热管外端伸出在外管外侧，而且，加热管外端面上安装有电源接线柱。

尤其是，在外管上安装测温器，测温器的内段伸入外管和内管之间的低熔点金属填料中。

尤其是，外管和内管为等高的同轴圆管，而且，在外管和内管的上下端面分别固定有外径与外管相同的圆盘。

尤其是，加热管高度不小于外管高度的1/2。

尤其是，测温器高度不小于外管高度的1/5。

本实用新型的优点和效果：通过加热元件加热低熔点金属，而且，将低熔点金属作为导热介质，同时具有加热均匀，温升稳定，而且热辐射和传导面积大的特点，并使之进一步的实现对所绑定靶材进行更为优良的加热。加热快速均匀，而且温度稳定，测温精确，使用方便。

附图说明

图1为本实用新型实施例1内部结构示意图。

图2为本实用新型实施例1外形结构示意图。

附图标记包括：低熔点金属填料1、加热管2、电源接线柱3、测温器4、外管5、内管6。

具体实施方式

本实用新型原理在于，通过加热元件加热低熔点金属，而且，将低熔点金属作为导热介质，同时具有加热均匀，温升稳定，而且热辐射和传导面积大的特点，并使之进一步的实现对所绑定靶材进行更为优良的加热。

本实用新型包括：低熔点金属填料1、加热管2、外管5和内管6。

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。

实施例1：如附图1和2所示，外管5内部安装内管6，而且在内管6之中安装加热管2，在外管5和内管6之间有低熔点金属填料1。

前述中，加热管2外端伸出在外管5外侧，而且，加热管2外端面上安装有电源接线柱3。

前述中，在外管5上安装测温器4，测温器4的内段伸入外管5和内管6之间的低熔点金属填料1中。

前述中，外管5和内管6为等高的同轴圆管，而且，在外管5和内管6的上下端面分别固定有外径与外管5相同的圆盘。

前述中，外管5外形是圆柱体，使用时可以放在金属衬管内部进行加热；

前述中，外管5和内管6为同轴钢管。

前述中，加热管2高度不小于外管5高度的1/2。