[实用新型]一种光学塑料基板镀膜装置

权利要求书

1.一种光学塑料基板镀膜装置，包括置于真空炉内的镀膜伞具(1)和蒸发源(2)，所述镀膜伞具(1)设有侧板(1b)和伞面(1a)，所述侧板(1b)和伞面(1a)用于放置待镀膜基板(3)，所述蒸发源(2)设置在镀膜伞具(1)内，其特征在于，包括导电棒(4)，所述导电棒(4)设置在基板(3)与蒸发源(2)之间，所述导电棒(4)与基板(3)表面夹角为0～5°，所述导电棒(4)与基板(3)距离20～40cm，所述导电棒(4)连接1.2～1.5kV电源(5)。

2.根据权利要求1所述的光学塑料基板镀膜装置，其特征在于：所述侧板(1b)与水平面夹角为70～85°，所述基板(3)设置在侧板(1b)上，所述导电棒(4)与基板(3)距离25～40cm。

3.根据权利要求1所述的光学塑料基板镀膜装置，其特征在于：所述伞面与水平面夹角为10～25°，所述基板设置在伞面上，所述导电棒与基板距离20～30cm。

4.根据权利要求1所述的光学塑料基板镀膜装置，其特征在于：所述导电棒长度为0.6～1.0m，直径10cm。

5.根据权利要求1所述的光学塑料基板镀膜装置，其特征在于：所述导电棒为无氧铜材料。