[实用新型]一种压滤镀膜系统有效

专利信息
申请号: 201520850400.1 申请日: 2015-10-28
公开(公告)号: CN205253482U 公开(公告)日: 2016-05-25
发明(设计)人: 闵永刚;于有海;彭莉;苑春秋;孟冰露 申请(专利权)人: 南京新月材料科技有限公司
主分类号: B05C9/02 分类号: B05C9/02;B05C11/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210038 江苏省南京市栖霞*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 压滤 镀膜 系统
【权利要求书】:

1.一种压滤镀膜系统,包括

供给装置(1),用于放置溶液;

第一输送装置(2),用于将供给装置(1)内的溶液输送至镀膜装置(4)内;

动力机构(3),用于调整所述第一输送装置(2)内的压力,以使第一输送装置(2)内的溶液带有一定压力;

镀膜装置(4),用于放置管式膜,并以压滤的方式将引入镀膜装置(4)内带有一定压力的溶液镀在管式膜的外壁,和/或内壁上;

第二输送装置(5),用于将镀膜装置(4)内镀膜之后的多余溶液排出。

2.根据权利要求1所述的压滤镀膜系统,其特征在于:所述动力机构(3)设置在所述供给装置(1)与第一输送装置(2)之间;其进口通过第一输送装置(2)连接于供给装置(1),其出口通过第一输送装置(2)连接于镀膜装置(4)。

3.根据权利要求1所述的压滤镀膜系统,其特征在于:所述镀膜装置(4)包括

第一镀膜机构,用于将引入镀膜装置(4)内的溶液镀在管式膜的外壁上,以在管式膜的外壁上形成镀膜层;

第二镀膜机构,用于将引入镀膜装置(4)内的溶液镀在管式膜的内壁上,以在管式膜内壁上形成镀膜层。

4.根据权利要求3所述的压滤镀膜系统,其特征在于:所述第一镀膜机构包括

本体外壳(45),具有空腔,用于放置管式膜;

第一进口(41),开设在所述本体外壳(45)上,与所述第一输送装置(2)的出口连接,用于将带有一定压力的溶液以垂直于管式膜外壁的方向进行镀膜;

第一出口(43),开设在所述本体外壳(45)上,与第二输送装置(5)连接,用于将镀膜后穿过管式膜的外壁进入管式膜的内部通道的溶液排出。

5.根据权利要求4所述的压滤镀膜系统,其特征在于:所述第二镀膜机构包括

本体外壳(45),具有空腔,用于放置管式膜;

第二进口(42),开设在所述本体外壳(45)上,与所述第一输送装置(2)的出口连接,用于将带有一定压力的溶液引入管状内壁,并以垂直于管式膜内壁的方向进行镀膜;

第二出口(44),开设在所述本体外壳(45)上,与第二输送装置(5)连接,用于将镀膜后穿过管式膜内壁进入管式膜的外壁与本体外壳(45)之间形成空间内的溶液排出。

6.根据权利要求3-5任一项所述的压滤镀膜系统,其特征在于:还包括控制装置,用于控制开启或关闭所述第一镀膜机构或/和第二镀膜机构。

7.根据权利要求6所述的压滤镀膜系统,其特征在于:所述控制装置包括:

第一控制器,设置在所述第一输送装置(2)上,并位于所述动力机构(3)与镀膜装置(4)之间,用于控制开启或关闭所述第一镀膜机构或/和第二镀膜机构的进口;以及

第二控制器,设置在所述第二输送装置(5)上,用于控制开启或关闭所述第一镀膜机构或/和第二镀膜机构的出口。

8.根据权利要求3-5任一项所述的压滤镀膜系统,其特征在于:

所述镀膜装置(4)具有两个进口,分别为第一进口(41)、第二进口(42);以及两个出口,分别为第一出口(43)、第二出口(44);

所述第一输送装置(2)具有一个第三进口(21),以及两个出口,分别为第三出口(22)、第四出口(23);

所述第二输送装置(5)具有两个进口,分别为第四进口(51)、第五进口(52);以及一个第五出口(53);

所述第一输送装置(2)的第三出口连接于镀膜装置(4)的第一进口(41),所述镀膜装置(4)的第一出口(43)连接于第二输送装置(5)的第四进口(51),以形成第一镀膜机构的镀膜模式;

所述第一输送装置(2)的第四出口(23)连接于镀膜装置(4)的第二进口(42),所述镀膜装置(4)的第二出口(44)连接于第二输送装置(5)的第五进口(52),以形成第二镀膜机构的镀膜模式。

9.根据权利要求1-5任一项所述的压滤镀膜系统,其特征在于:所述第二输送装置(5)的一端连接于镀膜装置(4),另一端连接于供给装置(1)。

10.根据权利要求1-5任一项所述的压滤镀膜系统,其特征在于:还包括第三阀门(63)或第四阀门(64),通过调节所述第三阀门(63)或第四阀门(64)来调节第一输送装置(2)和镀膜装置(4)内的压力;使镀膜装置(4)内压力达到一定阈值后,在管式膜的镀膜壁面上产生剪切力,形成错流镀膜模式;

压力检测器(8)用于检测第一输送装置(2)内和镀膜装置(4)的压力。

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