[实用新型]防湿膜有效
| 申请号： | 201520841728.7 | 申请日： | 2015-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN205112573U | 公开（公告）日： | 2016-03-30 |
| 发明（设计）人： | 李伟明;蓝银锋 | 申请（专利权）人： | 汕头市东通光电材料有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/06 | 分类号： | B32B27/06;B32B9/00;B32B33/00 |
| 代理公司： | 北京精金石专利代理事务所(普通合伙) 11470 | 代理人： | 刘晔 |
| 地址： | 515071 广东省汕头市濠江区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 防湿 | ||
【权利要求书】：
1.一种防湿膜，其特征在于主要包括有：基材层、氧化物层组、介电质层和紫外光吸收层，所述氧化物层组包括氧化钽层和氧化硅层，所述氧化钽层位于基材层的上表面，所述氧化硅层位于氧化钽层上表面，所述介电质层位于氧化硅层的上表面，所述紫外光吸收层位于基材层的下表面。
2.如权利要求1所述的防湿膜，其特征在于：所述基材层为可弹性弯折的聚对苯二甲酸乙二醇酯层。
3.如权利要求1所述的防湿膜，其特征在于：所述基材层的厚度为50um~125um。
4.如权利要求1所述的防湿膜，其特征在于：所述氧化钽层的厚度为20nm~40nm。
5.如权利要求1所述的防湿膜，其特征在于：所述氧化硅层的厚度为30nm~50nm。
6.如权利要求1所述的防湿膜，其特征在于：所述介电质层的厚度为50nm~100nm。
7.如权利要求1所述的防湿膜，其特征在于：所述紫外光吸收层的厚度为80nm~100nm。
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