[实用新型]一种狭缝式涂布机有效
| 申请号: | 201520835654.6 | 申请日: | 2015-10-26 |
| 公开(公告)号: | CN205236291U | 公开(公告)日: | 2016-05-18 |
| 发明(设计)人: | 付超 | 申请(专利权)人: | 杭州众能光电科技有限公司 |
| 主分类号: | B05C1/06 | 分类号: | B05C1/06;B05C11/02;B05C11/10 |
| 代理公司: | 杭州丰禾专利事务所有限公司 33214 | 代理人: | 王晓峰 |
| 地址: | 310018 浙江省杭州市经济技*** | 国省代码: | 浙江;33 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 狭缝 式涂布机 | ||
技术领域
本实用新型涉及薄膜涂布设备技术领域,尤其涉及一种狭缝式涂布机。
背景技术
对于现有狭缝式涂布机(slotdiecoater)而言,由于涂布头与基片间距为微米级,为保持涂布低间隙及高均匀度,涂布头与载片平台间需要极高的平行度。而在实验室中对现有设备进行涂布前调试、校零,需要长时间调节、试验来达到理想的效果,这样每次实验前都需要长时间的调整,并且不能保证每次调整后的效果都能达到最优,影响实验结果和研发进度。
发明内容
为了解决上述的技术问题,本实用新型的目的是提供一种狭缝式涂布机,该狭缝式涂布机结构合理,能够更效率的得到涂布头与平台间更高的平行度,使涂层超薄且有更高的均匀度,从而提高实验效率,降低成本。
为了实现上述目的,本实用新型采用了以下的技术方案:
一种狭缝式涂布机,包括工作台、支架、第二伺服电机和狭缝式涂布头,所述工作台包括底座、真空吸附平台和第一伺服电机,所述底座侧壁上设有拨杆,所述真空吸附平台位于底座的上部,且由至少一个第一伺服电机驱动,所述底座两侧的上部设有滑槽,滑槽内放置有量块,所述滑槽的侧壁上还设有长条形通孔,所述拨杆穿过通孔与量块连接,所述狭缝式涂布头通过支架固定在工作台的上方,并且狭缝式涂布头由第二伺服电机驱动,所述狭缝式涂布头的两侧固定有位移感应器,所述位移感应器与滑槽的位置对齐。
作为优选方案:所述支架包括横梁和支柱,两根支柱分别位于工作台的两侧,两台第二伺服电机分别固定在两根立柱的底部,所述横梁的两端分别与两台第二伺服电机的传动轴相连接,所述狭缝式涂布头固定在横梁中部。
作为优选方案:所述第一伺服电机通过电机支架固定在底座上。
作为优选方案:所述底座底部还设有四个支脚,其中三个支脚为高度可调节的支脚。这样工作台水平调节也更加方便,进一步提高了涂布头与载片平台间的平行度。
作为优选方案,所述位移感应器为非接触式或者接触式的感应器。
本实用新型通过在狭缝式涂布头两侧设置位移传感器,并且在底座上相对应的设置量块,使得狭缝式涂布头与工作平台之间的平行度更加方便的调整,精度更高,且量块位置可调节不影响狭缝式涂布头的正常工作。
本实用新型的狭缝式涂布机,结构合理,精度高,涂层薄,均匀性好,能够进行更高效、高精度的平行度校零,并可实现平行度全自动校零,从而提高了实验效率,降低成本。
附图说明
图1是本实用新型的正面结构示意图。
图2是本实用新型的顶面结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做一个详细的说明。
如图1和图2所示的一种狭缝式涂布机,包括工作台、支架、第二伺服电机4和狭缝式涂布头9,所述工作台包括底座3、真空吸附平台1和第一伺服电机2,所述底座3侧壁上设有拨杆7,所述真空吸附平台1位于底座3的上部,且由至少一个第一伺服电机2驱动,所述第一伺服电机2通过电机支架13固定在底座3上。
所述底座3两侧的上部设有滑槽6,滑槽6内放置有量块8,所述滑槽6的侧壁上还设有长条形通孔,所述拨杆7穿过通孔与量块8连接,所述狭缝式涂布头9通过支架固定在工作台的上方,并且狭缝式涂布头9由第二伺服电机4驱动,所述狭缝式涂布头9的两侧固定有位移感应器11,所述位移感应器11与滑槽6的位置对齐。
所述支架包括横梁10和支柱12,两根支柱12分别位于工作台的两侧,两台第二伺服电机4分别固定在两根立柱12的底部,所述横梁10的两端分别与两台第二伺服电机4的传动轴相连接,所述狭缝式涂布头9固定在横梁10中部。
所述底座3底部还设有四个支脚5,其中三个支脚5为高度可调节的支脚5。所述位移感应器11为非接触式或者接触式的感应器。
所述狭缝式涂布机在平行度校零时,狭缝式涂布头两侧的位移感应器分别感应与工作台两侧相对应的量块的距离,同时通过分别调节两侧第二伺服电机使位移感应器与对应的量块的距离相同,来达到狭缝式涂布头与工作台的高度平行的目的,所述平行度校零过程可以设定为全自动。狭缝式涂布机在工作时量块通过拨杆移动到滑槽另一端,狭缝式涂布头下降后位移感应器不会与量块有干涉。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州众能光电科技有限公司,未经杭州众能光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520835654.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





