[实用新型]一种花洒出水结构有效

专利信息
申请号: 201520817086.7 申请日: 2015-10-19
公开(公告)号: CN205165000U 公开(公告)日: 2016-04-20
发明(设计)人: 冯继君 申请(专利权)人: 江门市霏尼格斯淋浴制品科技有限公司
主分类号: B05B1/18 分类号: B05B1/18
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 冯剑明
地址: 529000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 种花 出水 结构
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种花洒配件,尤其是涉及一种花洒出水结构。

背景技术

目前市面上常用的花洒,其出水嘴单独设置,出水嘴位于花洒容腔内形成一个个凸起,当花洒在使用完毕后,由于出水嘴的凸起高度比较高,使得花洒内的积水残留比较多,容易造成污垢沉积,长期不使用花洒时,甚至会使得残留在花洒内的积水滋生细菌,容易发臭。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足,本实用新型提供了一种花洒内积水残留少的花洒出水结构。

本实用新型所采用的技术方案主要是:一种花洒出水结构,包括出水面板,所述出水面板端面均布有多个凸台,所述凸台周边设置有出水嘴,所述出水嘴内形成有出水孔。

作为上述技术方案的改进,所述出水孔上端设置有斜坡。

作为上述技术方案的进一步改进,所述出水面板还设置有导流通道,所述出水孔设置于导流通道底部。

进一步,所述多个凸台之间还设置有分流通道。

进一步,所述出水嘴一体成型于出水面板端面。

进一步,所述出水面板周边设置有两条或两条以上用于密封的凸起条。

本实用新型的有益效果是:

本实用新型的一种花洒出水结构,包括出水面板,出水面板端面均布有多个凸台,凸台周边设置有出水嘴,出水嘴内形成有出水孔,通过设置有多个凸台,使得花洒内部容腔的剩余空间体积变小,降低了积水残留在花洒内的体积,同时出水孔位于凸台周边下部,使得花洒内积水可以迅速排出,进一步降低了积水残留,减少了污垢的沉积,避免积水发臭影响使用卫生。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是本实用新型的另一角度示意图;

图3是导流通道的结构示意图;

图4是应用本实用新型的花洒截面示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

参照图1至图4,本实用新型的一种花洒出水结构,包括出水面板,出水面板安装于花洒内用于将水流按特定形状喷射出花洒下方,使得人们在洗澡时可以用水流更好地冲洗身体,出水面板端面设置多个凸台1,凸台1均布在出水面板端面上,凸台1周边设置有出水嘴2,出水嘴2一体成型于出水面板上,避免传统结构中单独制作的出水嘴2在清洗时容易被拔出的现象发生,同时出水嘴2可以根据需要排布成迷宫、雨淋、水波等造型,使得其外形更加美观,增强其视觉冲击力,出水嘴2内形成有用于将水排出花洒的出水孔3,该出水结构通过设置有多个凸台1,使得花洒在组装后内部形成一个整体的腔体,腔内空间被该出水结构的大面积的凸台1覆盖,使得腔内容积相对传统花洒减少了近70%,从而避免花洒在使用完毕后腔体内残留水过多,同时出水孔3位于凸台1周边下部,使得花洒内积水可以迅速排出,进一步减少了积水残留。

优选地,所述出水孔3上端设置有斜坡31,斜坡31根据实际需要可以设置成合适的角度,本实施例中,斜坡31设置成45°,斜坡两端采用圆弧过渡,通过设置有斜坡31,使得出水孔3上端形成有一个大锥度孔,水流在花洒内部时可以更快速地流进出水孔3从而从出水嘴2流出,避免水中污垢在出水孔3处沉积,提高了出水的通畅性,进一步减少了花洒内的积水残留。

本实用新型中,所述出水面板还设置有导流通道4,导流通道4由形成于出水面板上的凹槽构成,所述出水孔3设置于导流通道4底部,导流通道4将多个出水孔3串接起来,当水进入出水面板后,由于导流通道4位置比较低,水将迅速流入导流通道4内,然后再从导流通道4内的出水孔3排出,进一步提高了出水的顺畅性。同时,在排水过程中,导流通道4内逐渐形成锥状漏斗,在出水孔3内部形成涡流,有效防止杂质堵孔。

为进一步提高出水的顺畅性,所述多个凸台1之间还设置有分流通道5,所述分流通道5形成于凸台1之间的通道,通过设置有分流通道5,花洒内的积水可以快速均匀地分布于各个分流通道5内,然后再从分流通道5迅速流入导流通道4从而快速排出。

为增强出水面板的密封性能,出水面板周边设置有两条或两条以上的凸起条6,凸起条6用于与花洒套件配合,防止水从出水面板侧边渗漏出去,通过设置有多条凸起条6,有效提高了出水面板的密封性能,本实施例中,凸起条6设置为两条,一方面保证了出水面板比较高的密封性能,另一方面也使得生产工艺比较简单,生产成本比较低,安装也比较方便。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,只要以基本相同手段实现本实用新型目的的技术方案都属于本实用新型的保护范围之内。

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