[实用新型]纯离子镀膜装置过滤器的隔灰翻板

说明书

技术领域

本实用新型涉及材料表面处理技术领域，具体涉及一种纯离子镀膜装置过滤器的隔灰翻板。

背景技术

纯离子镀膜装置广泛应用在零件的外表面镀膜生产中，生产后的待镀膜零件上利用纯离子镀膜装置在零件的表面镀设一层或者数层涂层，以改变被镀零部件的表面性能。纯离子镀膜装置主要由真空抽气系统、阴极靶材、阳极、过滤器、镀膜腔室、基片和一些辅助零部件构成，其中，所述的过滤器整体呈现直角弯管状结构。从阴极靶材表面激发出来的等离子体向过滤器入口方向移动，过滤器的另一端出口与镀膜腔室连通，所述待镀膜的基片设置在镀膜腔室内，过滤后的离子束通过过滤器并沉降在基片上，从而完成镀膜过程，其中，过滤器一方面构成等离子体的通道，另一方面起到吸收或储存杂质颗粒，阻止较大的颗粒穿过过滤器，从而减少颗粒灰尘对镀膜腔室的污染，起到保持镀膜腔室的清洁的作用。

各种材料的表面都黏附着气体分子、杂质、颗粒等，在受到加热或轰击时，这些颗粒、杂质等会吸收能量而逃逸出过滤器吸附表面，从而污染镀膜环境和被镀膜基片的表面。即使基片被放进腔室前被清洗干净，在受到颗粒、杂质的污染后，也有可能变脏，导致纳米膜层的颗粒较多或较大，在纯离子镀膜源被预热或者开始工作的前10-15分钟，大量黏附在过滤器的内表面的颗粒、杂质，因为温度升高或者受到轰击获得足够的能量而逃逸出吸附表面，污染了镀膜腔室环境和被镀基片表面，致使膜层颗粒较大，膜层黏附性能也受到影响。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：提供一种纯离子镀膜装置过滤器的隔灰翻板，在确保等离子体通过地同时，防止灰尘颗粒由过滤器进入镀膜腔室。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种纯离子镀膜装置过滤器的隔灰翻板，包括阴极靶材，所述阴极靶材产生的等离子体向过滤器的入口移动，阴极靶材周围设置有阳极，过滤器的出口与镀膜腔室连通，所述镀膜腔室内放置基片，所述过滤器的出口位置处摆动式设置有翻板，摆动式翻板呈现用于封堵过滤器的出口及与过滤器之间形成供离子束通过的通道的两种位置状态。

与现有技术相比，本实用新型具备的技术效果为：该翻板既能有效遮挡杂质颗粒，又不会对抽气性能产生较大影响。在纯离子镀膜源预热或工作前，翻板处在关闭位置，确保温升过程中产生的杂质颗粒不会逃逸出过滤器而污染腔室和基片，当温度状态和真空度趋于稳定，镀膜环境比较清洁，翻板自动开启，开始纳米薄膜沉积。自动保护翻板把基片和预热或者镀膜初期产生的杂质颗粒隔离开来，有效地减少了纳米膜层的颗粒。

附图说明

图1是纯离子镀膜装置结构示意图。

具体实施方式

结合图1，对本实用新型作进一步地说明：

一种纯离子镀膜装置过滤器的隔灰翻板，包括阴极靶材10，所述阴极靶材10产生的等离子体向过滤器20的入口移动，阴极靶材10周围设置有阳极30，过滤器20的出口与镀膜腔室40连通，所述镀膜腔室40内放置基片50，所述过滤器20的出口位置处设置有摆动式翻板60，摆动式翻板60呈现用于封堵过滤器20的出口及与过滤器20之间形成供等离子体通过的通道的两种位置状态。

该翻板60既能有效遮挡杂质颗粒，又不会对抽气性能产生较大影响。在纯离子镀膜源预热或工作前，翻板60处在关闭位置，确保温升过程中产生的杂质颗粒不会逃逸出过滤器20而污染镀膜腔室40和基片50，当温度状态和真空度趋于稳定，镀膜环境比较清洁，翻板20自动开启，开始纳米薄膜沉积。自动保护翻板60把基片50和预热或者镀膜初期产生的杂质颗粒隔离开来，有效地减少了纳米膜层的颗粒。

作为本实用新型的优选方案，所述过滤器20的出口位置处还设置有灰尘挡板70，所述灰尘挡板70上开设有供等离子体形成的离子束a通过的通孔71，所述翻板60设置在灰尘挡板70的前方，灰尘挡板70与翻板60之间间隔布置，结合图1所示，受热或者轰击产生的灰尘、杂质颗粒首先受到灰尘挡板70的阻挡作用，该灰尘挡板70阻挡了大部分的灰尘颗粒，即使有小部分的灰尘颗粒由通孔71位置处逃逸出，翻板60可起到进一步的阻挡作用，从而避免灰尘颗粒对镀膜腔室40的清洁度的影响。

进一步优选地，所述翻板60与灰尘挡板70之间距离范围是5～10mm。

结合图1所示，所述翻板60的面积大于通孔71面积，翻板60的边缘和通孔71是我边缘连线与水平中心线之间的夹角b范围在40°～50°之间。