[实用新型]一种晶化槽消音装置有效
申请号: | 201520776465.6 | 申请日: | 2015-09-27 |
公开(公告)号: | CN205087930U | 公开(公告)日: | 2016-03-16 |
发明(设计)人: | 郑艳洁;姬二昌 | 申请(专利权)人: | 洛阳建龙微纳新材料股份有限公司 |
主分类号: | C01B39/00 | 分类号: | C01B39/00;C01B37/00 |
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地址: | 471000 河南省*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 晶化槽 消音 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及晶化槽装置,尤其是一种晶化槽消音装置。
背景技术
分子筛原粉在合成过程中需要经过反应液配制、成胶、低温老化、高温晶化等步骤合成最终分子筛原粉成品。晶化过程温度一般为90-100℃,加热过程是通过蒸汽加热实现的。在加热过程中,会产生较大噪音,产生噪音污染,影响车间环境。
鉴于上述原因,现有晶化槽的结构需要改进。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足,提供一种晶化槽消音装置,在晶化过程中产生的噪音,大部分可被消音装置吸收,从而起到降低晶化合成过程中产生的噪音分贝,改善车间生产环境。
本实用新型为了实现上述目的,采用如下技术方案:一种晶化槽消音装置,是由:晶化槽、消音器、吸音孔构成;晶化槽的内壁上均匀分布至少两个消音器,所述消音器上均匀分布至少十个吸音孔。
本实用新型的有益效果是:本实用新型在晶化槽内安装消音装置,在晶化过程中产生的噪音,大部分可被消音装置吸收,从而起到降低晶化合成过程中产生的噪音分贝,改善车间生产环境。本实用新型结构简单,操作方便,制造成本低,使用效果好,降低了生产成本,提高了生产效率,适合普遍推广应用。
附图说明
下面结合附图对本实用新型作进一步说明:
图1是,总装结构示意图;
图1中:晶化槽1、消音器2、吸音孔3。
具体实施方式
下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明:
如图所示,晶化槽1的内壁上均匀分布至少两个消音器2,所述消音器2上均匀分布至少十个吸音孔3。
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