[实用新型]一种支撑柱热场有效
| 申请号: | 201520761268.7 | 申请日: | 2015-09-29 |
| 公开(公告)号: | CN204982134U | 公开(公告)日: | 2016-01-20 |
| 发明(设计)人: | 刘耀峰 | 申请(专利权)人: | 无锡荣能半导体材料有限公司 |
| 主分类号: | C30B28/06 | 分类号: | C30B28/06;C30B29/06 |
| 代理公司: | 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 | 代理人: | 高玉滨 |
| 地址: | 214183 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 支撑 柱热场 | ||
技术领域
本实用新型属于多晶铸锭生产领域,具体涉及一种使铸锭炉减少所铸硅锭的内部阴影和杂质比率的改进热场。
背景技术
在多晶硅锭制备过程中,随着热场使用时间的增加,内部隔热层氧化,加热器老化现象日益严重,逐渐会出现以下的问题:
①热场保温性差:由于热场保温取决于钢笼隔热层的固体碳毡的完整性,但时间用的越久,固体碳毡的氧化脱落情况愈发严重,保温性越来越差;
②硅锭底部阴影比率加重:硅锭长晶时依靠钢笼隔热层向上运动,使热量开始散发至下腔室炉壁后,热量由炉壁内的循环水带走,形成上面温度高下面温度低的温度梯度,从而长晶。但是热场老化后下腔室隔热板的隔热效果大打折扣,导致硅锭底部长晶速率太快,出现阴影的比率加大;
③使用寿命:由于热场的老化,为了保证生产质量,不得不更换热场,这样生产成本增加。因此,为了解决这些问题,一般是在工艺方面进行操作,增加某一阶段的温度,更改整体的温度补偿值,或者减少钢笼上升速率,这些操作有一定的效果,但都无法高效解决这些问题,需要更有效的办法缓解这类问题造成的影响。
实用新型内容
本实用新型的目的是克服现有技术的不足,提供一种支撑柱热场。
本实用新型的技术方案是:一种支撑柱热场,包括铸锭炉下腔室,所述铸锭炉下腔室包括下腔室底座、大隔热板和小隔热板,在所述大隔热板和小隔热板之间设置一层软碳毡,在所述下腔室底座内放置石墨垫块,在所述石墨垫块上放置石墨柱。
优选地,所述软碳毡为1cm。
优选地,所述石墨垫块为1.5cm。
优选地,所述石墨柱顶端放置石墨DS块。
本实用新型的有益效果:本实用新型抬高整个铸锭坩埚的高度,使硅锭长晶位置抬高,位于高位置的温度梯度,变相增加整体的环境温度;而且没有增加能耗,且补偿了热场的保温性变差带来的影响;另外,增加软毡是为了在长晶过程中使硅锭底部温度散温速率减缓,长晶速率减慢,减少硅锭底部的阴影的比率。
附图说明
图1是本实用新型支撑柱热场的结构示意图;
图2为图1局部放大图;
图中:1石墨DS块,2石墨柱,3小隔热板,4大隔热板,5软碳毡,6下腔室底座,7石墨垫块。
具体实施方式
结合附图对本实用新型提供的实施方式作进一步详细的说明:
如图1、2所示,一种支撑柱热场,包括铸锭炉下腔室,所述铸锭炉下腔室包括下腔室底座6、大隔热板4和小隔热板3,在所述大隔热板4和小隔热板3之间设置一层软碳毡5,在所述下腔室底座6内放置石墨垫块7,在所述石墨垫块7上放置石墨柱2。
其中,所述软碳毡5为1cm,所述石墨垫块7为1.5cm,所述石墨柱2顶端放置石墨DS块1。
解决减少铸锭的阴影杂质的办法,步骤如下:
①准备三个相同厚度1.5cm的圆柱石墨块,直径比下腔室的底座直径偏小,打磨圆切面,保证平整,保证水平;
②准备软毡,大小和下腔室小隔热板相同,开孔位置要对应;
③清理干净下腔室底座的杂物,放入事先准备好的厚度1.5cm的圆柱石墨块,再放入石墨立柱;
④依次放入下腔室大隔热板、软碳毡(厚度1cm)、下腔室小隔热板,压平,压实,保证无拱起。
⑤石墨柱顶部抬上DS块,完成热场改进。正常投料运行。
以下结合实施例对本实用新型做出进一步的详细数据说明:
选择5台阴影比较严重的铸锭炉,分别为:10#13#19#21#25#。每台铸锭炉都垫1.5cm石墨块,整体抬高1.5cm,水平检测也是正常;下腔室隔热板中垫一层的软毡,之后看出炉硅锭的检测数据是否有好转。
。
由上表格明显看出,阴影明显好转。
本实用新型抬高整个铸锭坩埚的高度,使硅锭长晶位置抬高,位于高位置的温度梯度,变相增加整体的环境温度;而且没有增加能耗,且补偿了热场的保温性变差带来的影响;另外,增加软毡是为了在长晶过程中使硅锭底部温度散温速率减缓,长晶速率减慢,减少硅锭底部的阴影的比率。
在此说明书中,本实用新型已参照其特定的实施例作了描述。但是,很显然仍可以做出各种修改和变换而不背离本实用新型的精神和范围。因此,说明书和附图应被认为是说明性的而非限制性的。
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