[实用新型]SAGD井的处理装置

权利要求书

1.一种SAGD井的处理装置，其特征在于，所述处理装置包括至少一个子处理装置，所述子处理装置包括：

储液设备，储存有液体介质；以及

液体输送管线，所述液体输送管线的一端与所述储液设备相连接，所述液体输送管线的另一端与井口的第一端相连接。

2.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，所述子处理装置还包括：

注入泵，所述储液设备通过所述注入泵与所述液体输送管线相连接。

3.根据权利要求2所述的处理装置，其特征在于，所述子处理装置还包括用于控制所述液体输送管线的流量状态的第一控制结构，所述第一控制结构设置在所述液体输送管线上。

4.根据权利要求3所述的处理装置，其特征在于，所述第一控制结构包括沿液体的流动方向依次布置的单流阀、第一流量计、第一压力变送器和第一流量调节阀。

5.根据权利要求4所述的处理装置，其特征在于，所述第一流量计为第一差压式流量计，且所述第一差压式流量计包括第一流量传感器、第一节流设备与第一支线，所述第一流量传感器设置在所述单流阀与所述第一压力变送器之间的所述液体输送管线的管段上，所述第一节流设备设置在所述第一压力变送器与所述第一流量传感器之间的所述液体输送管线的管段上，所述第一支线的一端与所述第一节流设备相连接，所述第一支线的另一端与所述第一流量传感器相连接。

6.根据权利要求5所述的处理装置，其特征在于，所述第一支线上设置有第一考克。

7.根据权利要求6所述的处理装置，其特征在于，所述子处理装置还包括延伸管线，所述延伸管线用于连接所述井口的第二端与所述储液设备。

8.根据权利要求7所述的处理装置，其特征在于，所述子处理装置还包括用于控制所述延伸管线的流量状态的第二控制结构，所述第二控制结构设置在所述延伸管线上。

9.根据权利要求8所述的处理装置，其特征在于，所述第二控制结构包括沿液体的流动方向依次布置的第二流量计、第二压力变送器和第二流量调节阀。

10.根据权利要求9所述的处理装置，其特征在于，所述第二流量计为第二差压式流量计，且所述第二差压式流量计包括第二流量传感器、第二节流设备与第二支线，所述第二流量传感器设置在所述延伸管线上，所述第二节流设备设置在所述第二流量传感器与所述第二压力变送器之间的所述延伸管线的管段上，所述第二支线的一端与所述第二节流设备相连接，所述第二支线的另一端与所述第二流量传感器相连接。

11.根据权利要求10所述的处理装置，其特征在于，所述第二支线上设置有第二考克。

12.根据权利要求2所述的处理装置，其特征在于，所述储液设备与所述注入泵之间设置有第一连接管线，所述处理装置还包括过滤器，所述过滤器设置在所述第一连接管线上。

13.根据权利要求12所述的处理装置，其特征在于，所述第一连接管线上还设置有控制阀。

14.根据权利要求5所述的处理装置，其特征在于，所述液体输送管线的单流阀和所述第一流量传感器之间的管线为第一段管线，所述处理装置还包括第二连接管线，所述第二连接管线包括第二连接管线第一端与第二连接管线第二端，所述第二连接管线第一端与所述第一段管线相连接，所述第二连接管线第二端与所述储液设备相连接。

15.根据权利要求2所述的处理装置，其特征在于，所述处理装置还包括至少一个配电设备，所述配电设备与所述注入泵电连接以供电。