[实用新型]一种吸笔有效

专利信息
申请号: 201520742607.7 申请日: 2015-09-23
公开(公告)号: CN204966473U 公开(公告)日: 2016-01-13
发明(设计)人: 徐彬;韩伟 申请(专利权)人: 山东百利通亚陶科技有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司 37205 代理人: 闫晓燕
地址: 250103 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种吸笔。

背景技术

在半导体晶片制作工艺中,在晶片溅渡站,需要用吸笔把固定在掩膜里面的晶片吸取出来,并放到250B测试仪器上测试其电性能。具体的说,在上一道工序中,若干晶片均布于上掩膜与下掩膜之间,由于上、下掩膜的厚度很薄,为了使晶片固定的牢固,在上掩膜上方设有上支撑板,在下掩膜下方设有下支撑板,上支撑板、上掩膜、下掩膜和下支撑板从上到下依次叠置于一起,并通过螺丝锁紧固定。当需要把晶片取出时,先用螺丝刀将螺丝拆卸,将上、下支撑板取下,然后再将上、下掩膜分开,从而能够用吸笔把晶片吸取出来。然而,由于上、下掩膜的厚度很薄,因此上、下掩膜易贴合在一起,为了不损坏上、下掩膜,工人不能用手去硬扯使其分开,并且由于工人在操作时都带着胶皮手套,因此工人即使用手也不好将其分开。现有操作过程是工人需要更换一次工具,即需要工人两次手臂的抬放,来完成上、下掩膜的分开及晶片的吸取工作。具体的说,工人需要先拿起挑针,用挑针将上、下掩膜分开,然后将挑针放下拿起吸笔,用吸笔将晶片吸取出来。然而在实际工作中,工人每天需要重复上述动作成百上千次,工人的劳动强度很大,由于吸嘴的头部为锥形,工人为了省事,会直接使用吸笔上的吸嘴协助将上、下掩膜分开。这种操作方式虽然可以将上、下掩膜分开,但是具有以下缺点:一、由于吸嘴是塑料材质的,很容易磨损,因此需要经常更换吸笔上的吸嘴,增加了生产成本,影响了生产效率;二、吸嘴磨损产生的碎屑容易将晶片污染,造成晶片电性不良,影响晶片整体良率以及产品品质;三、在操作过程中工人需要更换工具,降低了生产效率。

实用新型内容

本实用新型提供了一种吸笔,它结构设计合理,使用方便,将挑针设置在吸笔上,工人无需更换工具,只需一次手臂的抬放就可以完成上、下掩膜的分开及晶片的吸取工作,大大提高了工作效率,减轻了工人的劳动强度,并且避免了吸嘴的非正常磨损,减少了生产成本,解决了现有技术中存在的问题。

本实用新型为解决上述技术问题所采用的技术方案是:它包括笔体,在笔体内设有吸气管路,在笔体的下端设有吸气管,吸气管内的吸气腔与吸气管路相连通,在吸气管的吸气口处设有吸嘴,在笔体外侧壁上设有与吸气管路相连通的通气孔,在笔体的下端设有挑针,挑针与吸气管背向弯曲设置。

在笔体外侧壁上设有防滑纹。

在通气孔上方的笔体上设有定位凸起。

在笔体内设有吹气管路,在笔体的下端设有吹气管,吹气管内的吹气腔与吹气管路相连通,在笔体上设有控制吹气管路开闭的控制阀。

所述控制阀为按压式控制阀。

所述吹气管与吸气管同向弯曲设置,且吹气管的吹气口靠近吸气管上的吸嘴。

所述吸嘴包括盘体,在盘体上设有一凹槽,所述吸气管内的吸气腔延伸至盘体内,在盘体内设有一组相互独立的吸气孔,每个吸气孔的一端与吸气腔相连通,每个吸气孔的另一端设置在凹槽的槽底。

本实用新型采用上述方案,具有以下优点:

1、本实用新型将挑针设置在吸笔上,工人无需更换工具,只需一次手臂的抬放就可以完成上、下掩膜的分开及晶片的吸取工作,虽然在此工序中本实用新型仅仅减少了工人一次手臂的抬放,但是在此工序工作的工人每天需要重复上述动作成百上千次,因而本实用新型大大提高了工作效率,减轻了工人的劳动强度,并且避免了吸嘴的非正常磨损,减少了生产成本。

2、为了避免通过挑针将上、下掩膜分开及通过吸气管将晶片吸取的过程相互干涉,挑针与吸气管背向弯曲设置。

3、在笔体外侧壁上设有防滑纹,能够增加工人的手与笔体之间的摩擦力,从而避免由于不慎滑落造成吸笔的损坏。

4、在通气孔上方的笔体上设有定位凸起。当工人在使用吸笔时,无需刻意寻找通气孔的位置,只需在定位凸起的下侧按压手指即可找到通气孔,增加了操作的便捷性,提高了工作效率。

5、在使用中,当晶片靠的比较近时,由于晶片之间没有太多空气,再加上晶片的重量很轻,因此晶片受到大气压力而相互吸附贴靠在一起。当需要拿出一片叠置的晶片时,需要先将吸气管上的吸嘴朝向位于最外侧的晶片顶面,此时用手指按压通气孔,吸气管内的吸气腔与吸气管路相连通,吸气设备通过吸气管路、吸气腔吸气,从而将最外侧的晶片吸取,然后操作控制阀,使吹气管内的吹气腔与吹气管路相连通,吹气设备通过吹气管路、吹气腔吹气,从而将叠置的晶片分离。吸气的吸力、吹气的吹力通过吸气设备、吹气设备调节。另外,虽然工作环境为无尘环境,但是依然不能保证每个晶片在生产过程中不受污染,当发现晶片受到污染时,能够通过上述操作过程对其进行清理,从而将晶片上的污染物清除掉。

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