[实用新型]一种导电塑料计算机屏蔽外壳有效

专利信息
申请号: 201520731117.7 申请日: 2015-09-21
公开(公告)号: CN205080478U 公开(公告)日: 2016-03-09
发明(设计)人: 王彦民;姜佩东 申请(专利权)人: 蓝色海洋(天津)工程技术有限公司
主分类号: G06F1/18 分类号: G06F1/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300000 天津市津南区*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 导电 塑料 计算机 屏蔽 外壳
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于电磁屏蔽技术领域,尤其涉及一种导电塑料计算机屏蔽外壳。

背景技术

静电荷的积累与释放、电磁干扰及无线电波干扰是电子行业面临的两大难题。静电荷的积累与释放会使各种精密仪器、精密电子元件被击穿而报废。电磁干扰及无线电干扰会直接或间接引发电子元器件误动作或系统失灵。因此,在电子设备、集成电路等精密元器件的涉及、生产、储运、运行过程中必须考虑抗静电和电磁屏蔽问题。电磁屏蔽材料主要有金属、一般工程塑料和导电塑料。金属具有优良的导电性,是传统的抗静电、电磁屏蔽材料,但金属材料存在密度大、价格贵、难加工、易腐蚀、抗静电和屏蔽性能难以调解等缺点。一般工程塑料虽然具有质量轻、价格低、耐腐蚀、易成型的特点,但是一般为绝缘体,易积累静电荷,且对电磁场几乎无任何屏蔽作用,尤其是对1GHz以下和低频电磁波几乎是完全“透过”,因此无法应用于抗静电、电磁屏蔽领域。导电塑料具有普通塑料的优点,同时拥有类金属的导电特性,是一种理想的抗静电、电磁屏蔽材料。目前电磁屏蔽材料的结构主要有表面导电型和填充复合型两大类。表面导电型是利用贴金属箔、金属熔融喷涂和非电解电镀等方法使塑料表面获得很薄的导电金属层。表面涂层和表面喷镀已得到广泛应用,但这些导电层经过长年累月的应用易发生剥离和脱层现象。与表面导电型屏蔽材料相比,填充型是将导电填料与树脂基体复合为一体形成屏蔽材料。导电填料一般是选用导电性能优良的大尺寸纤维状或片状材料,如金属纤维或碳纤维。但是填充型复合材料的制备过程中经常会存在导电纤维的分散不均匀问题。

发明内容

为了解决上述技术问题,本实用新型提供一种防腐蚀、导电纤维材料分散均匀的计算机屏蔽外壳,包括上屏蔽外壳和下屏蔽外壳,所述上屏蔽外壳包括屏幕仓、屏幕仓壁、上导电胶口、按键仓,所述屏幕仓横向设于该上屏蔽外壳底部且通过按键仓壁与所述按键仓相连,所述屏幕仓壁外侧设有内限位安装柱,所述上导电胶口设于上屏蔽外壳壁顶部四周,所述上屏蔽外壳壁内侧设有上限位安装柱,所述下屏蔽外壳包括电池仓和下导电胶口,所述电池仓设于该下屏蔽外壳内部,所述下导电胶口设于下屏蔽外壳壁顶部四周,所述下屏蔽外壳壁内侧设有下限位安装柱。

所述上屏蔽外壳和下屏蔽外壳四周均设有圆角。

本实用新型的有益效果为:

本实用新型导电塑料计算机屏蔽外壳可实现碳纤维在塑料基体中的均匀分散,可实现对碳纤维编织体的均匀涂覆,使之既具有金属的高电导率,又具有高分子材料的密度低、防腐性能好、宽频、吸收大和易加工的特点,其屏蔽效能可达到80dB以上;且其制备工艺更简单,更易于控制。

附图说明

图1是本实用新型上屏蔽外壳的俯视图;

图2是沿图1中A-A线的剖视图;

图3是本实用新型下屏蔽外壳的俯视图;

图4是沿图3中B-B线的剖视图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型做进一步描述:

图中:1-上屏蔽外壳,2、4、22、23、24、25、26、27、28、29-内限位安装柱,3、5、7、9、12、15、16、17、18、19、20、21-上限位安装柱,6-屏幕仓,8-上屏蔽外壳壁,10-屏幕仓壁,11-按键仓壁,13-按键仓,14-上导电胶口,30-下屏蔽外壳,31-电池仓,32、34、35、36、37、38、39、40、41、42、43、44-下限位安装柱,33-下导电胶口,45-下屏蔽外壳壁。

实施例:

本实施例包括上屏蔽外壳1和下屏蔽外壳30,上屏蔽外壳1包括屏幕仓6、屏幕仓壁10、上导电胶口14、按键仓13,屏幕仓6横向设于该上屏蔽外壳1底部且通过按键仓壁11与按键仓13相连,屏幕仓壁10外侧设有内限位安装柱2、4、22、23、24、25、26、27、28、29,上导电胶口14设于上屏蔽外壳壁8顶部四周,上屏蔽外壳壁8内侧设有上限位安装柱3、5、7、9、12、15、16、17、18、19、20、21,下屏蔽外壳30包括电池仓31和下导电胶口33,电池仓31设于该下屏蔽外壳30内部,下导电胶口33设于下屏蔽外壳壁45顶部四周,下屏蔽外壳壁45内侧设有下限位安装柱32、34、35、36、37、38、39、40、41、42、43、44,上屏蔽外壳1和下屏蔽外壳30四周均设有圆角。

利用本实用新型所述的技术方案,或本领域的技术人员在本实用新型技术方案的启发下,设计出类似的技术方案,而达到上述技术效果的,均是落入本实用新型的保护范围。

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