[实用新型]一种掩模板和曝光系统

权利要求书

1.一种掩模板，包括透明基板，以及形成于透明基板表面的掩模图形；其中，所述掩模图形包括用于对应形成显示区内膜层图形的第一区和用于对应形成非显示区内膜层图形的第二区；

所述第一区和所述第二区内均设置有多个图形化掩模，且所述第一区内图形化掩模的分布密度小于所述第二区内图形化掩模的分布密度；

每个所述图形化掩模包括用于形成所述晶体管的源极的第一图形、用于形成所述晶体管的漏极的第二图形和夹设在所述第一图形和所述第二图形之间的狭缝，其特征在于，所述第一区内的所述狭缝的宽度大于所述第二区内的所述狭缝的宽度。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，设所述第一区内的所述狭缝的宽度为L，所述第二区内的所述狭缝的宽度为M，M＝L-L×X％，其中，0＜X＜100，且X与所述第二区和所述第一区内所述图形化掩模的分布密度差值成正比。

3.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述第一图形和所述第二图形均由遮光材料构成，所述狭缝底部暴露所述透明基板。

4.根据权利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述掩模图形设置于所述透明基板一侧的表面；

所述第一图形、第二图形均由低反射率的遮光材料构成。

5.根据权利要求4所述的掩模板，其特征在于，所述第一区和所述第二区内还设置有用于对应形成布线的布线图形，所述布线图形与所述掩模图形设置于所述透明基板同一侧的表面，且与所述第一图形和所述第二图形的材料相同。

6.一种曝光系统，其特征在于，包括权利要求1-5任意一项所述的掩模板。