[实用新型]一种X-RAY钻靶机的精度辅助校正工具有效
| 申请号： | 201520713473.6 | 申请日： | 2015-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN204997115U | 公开（公告）日： | 2016-01-27 |
| 发明（设计）人： | 王晓槟;周兴勉;杨显明 | 申请（专利权）人： | 惠州中京电子科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B23B49/00 | 分类号： | B23B49/00 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 温旭 |
| 地址： | 516029 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 ray 靶机 精度 辅助 校正 工具 | ||
【权利要求书】：
1.一种X-RAY钻靶机的精度辅助校正工具，其特征在于：
包括基板；在所述基板上设置第一校正孔组、第二校正孔组、第三校正孔组；
所述第一校正孔组与所述第二校正孔组在同一水平线上布置，两者相距300毫米；所述第三校正孔组与所述第一校正孔组垂直向布置，两者相距150毫米。
2.根据权利要求1所述的一种X-RAY钻靶机的精度辅助校正工具，其特征在于：
所述第一校正孔组包括四个水平布置，并且两两相距50毫米的第一校正孔；
所述第二校正孔组包括四个水平布置，并且两两相距50毫米的第二校正孔。
3.根据权利要求2所述的一种X-RAY钻靶机的精度辅助校正工具，其特征在于：
所述的第三校正孔组包括三个垂直向布置，并且两两相距50毫米的第三校正孔。
4.根据权利要求3所述的一种X-RAY钻靶机的精度辅助校正工具，其特征在于：
所述的第一校正孔、第二校正孔以及第三校正孔的孔径都为3.2毫米。
5.根据权利要求1所述的一种X-RAY钻靶机的精度辅助校正工具，其特征在于：
所述的基板为金属基板。
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