[实用新型]坩埚液位测量仪有效
申请号: | 201520703886.6 | 申请日: | 2015-09-11 |
公开(公告)号: | CN204881528U | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
发明(设计)人: | 秦朗 | 申请(专利权)人: | 锦州神工半导体有限公司 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02;G01F23/00 |
代理公司: | 锦州辽西专利事务所 21225 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 121016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 坩埚 测量仪 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种直拉法单晶硅生产作业中提高控制精度的测量工具,特别涉及一种坩埚液位测量仪。
背景技术
在直拉法单晶规模化工业生产中,导流罩的使用已经非常普遍。随着导流罩的使用,在拉制工艺的设定方面,存在一个问题,就是如何控制坩埚上升速度。因为导流罩到液面的高度是有限的,若坩埚上升速度过快,有可能造成导流罩浸入硅液里,发生生产事故;若速度过慢,则会造成晶体生长缓慢。通过理论计算,能计算出坩埚上升的速度。但是随着坩埚的软化以及石墨坩埚的老化,液面的截面积会和理论计算不一致。因此导流罩下沿到液面的距离控制依靠人的感觉,无法进行精准测量。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种能够精确测量导流罩下沿到坩埚液面距离,从而可实现精确控制的坩埚液位测量仪。
为解决上述问题,本实用新型采用如下技术方案:
一种坩埚液位测量仪,包括一个环形底板框架,在底板框架的二个直段上表面对称设有导轨,在底板框架上设有可沿导轨直线滑动的镜头支架,在镜头支架上端设有与导轨垂直的滑道并在滑道上设有可沿滑道往复滑动的镜头座,在镜头座内设有调焦镜头;在镜头支架上端设有数显表,数显表的表头与镜头座连接,数显表的标尺两端与镜头支架连接。
作为进一步优选,所述底板框架为跑道状,在其一侧设有二个固定螺钉,用于将底板框架固定在直拉单晶炉的观察窗上。
作为进一步优选,所述导轨为角铁状,所述镜头支架两侧下端分别插入到导轨与底板框架形成的槽口内。
作为进一步优选,在镜头支架一侧内表面设有定位板,定位板位于导轨上面,在定位板上设有定位螺钉。
作为进一步优选,所述数显表的表头与镜头座通过螺钉可拆卸连接。
作为进一步优选,所述数显表的标尺两端与镜头支架通过螺钉可拆卸连接。
作为进一步优选,所述调焦镜头通过一个万向节安装在镜头座内,使调焦镜头的角度可调。
作为进一步优选,在镜头座两侧对称设有顶丝,用于实现调焦镜头角度调节后的定位。
本实用新型的有益效果是:利用该测量仪,能够精确测量并读出导流罩下沿到坩埚液面的距离,从而可实现精确控制。每小时对该数据进行记录,便可计算出实际的坩埚上升速度,可以更好统计出数据,对坩埚上升速度工艺参数进行设计。
附图说明
图1是本实用新型主块的结构示意图。
图2是图1的A-A剖视图。
图中:底板框架1,导轨2,固定螺钉3,滑道4,调焦镜头5,镜头座6,顶丝7,数显表8,定位板9,定位螺钉10,镜头支架11,标尺12。
具体实施方式
如图1-图2所示,本实用新型涉及的一种坩埚液位测量仪,包括一个环形底板框架1,该底板框架1为跑道状,在其一侧对称设有二个固定螺钉3,用于将底板框架1固定在直拉单晶炉的观察窗上。在底板框架1的二个直段上表面对称焊接有二根导轨2,在底板框架1上设有可沿导轨2直线滑动的镜头支架11。作为优选,所述导轨2为角铁状,所述镜头支架11两侧下端分别插入到导轨2与底板框架1形成的槽口内,以便于实现往复滑动。
在镜头支架11上端设有与导轨2垂直的燕尾槽型滑道4并在滑道4上设有可沿滑道4往复滑动的镜头座6,在镜头座6内插装有调焦镜头5,调焦镜头5通过一个万向节安装在镜头座6内,使调焦镜头5的角度可调。在镜头座6两侧对称设有顶丝7,用于实现调焦镜头5角度调节后的定位。在镜头支架11上端设有数显表8,数显表8的表头与镜头座6通过螺钉可拆卸连接,数显表8的标尺12两端与镜头支架11通过螺钉可拆卸连接。
作为优选,在镜头支架11一侧内表面焊接有定位板9,定位板9位于同一侧的导轨2上面,在定位板9上设有定位螺钉10,通过旋转定位螺钉10压在导轨2上,可实现镜头支架11的定位。
使用时,将该坩埚液位测量仪通过底板框架1使用固定螺钉3固定在直拉单晶炉的观察窗上,然后滑动镜头支架11使其沿导轨2平移,用肉眼通过调焦镜头5观察单晶炉内部的影像,当通过调焦镜头5观察到单晶炉内导流罩的下边沿时,旋紧定位螺钉10使镜头支架11位置固定,并将数显表8清零;再沿滑道4滑动镜头座6和调焦镜头5,同时观看调焦镜头5,当观察到单晶炉内的导流罩位于坩埚内液体的倒影时,通过数显表8读出镜头座6和调焦镜头5的滑动距离,即为导流罩下沿到坩埚液面的距离的二倍,通过简单的数学计算,便可得到导流罩下沿到坩埚液面的距离。
尽管本实用新型的实施方案已公开如上,但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用,它完全可以被适用于各种适合本实用新型的领域,对于熟悉本领域的人员而言,可容易地实现另外的修改,因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下,本实用新型并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。
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