[实用新型]一种废水除硫反应器有效
申请号: | 201520699859.6 | 申请日: | 2015-09-10 |
公开(公告)号: | CN204939051U | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
发明(设计)人: | 曹真;肖帅帅;尹胜奎;耿天甲;张万松;曹普晅 | 申请(专利权)人: | 北京今大禹环保技术有限公司 |
主分类号: | C02F1/58 | 分类号: | C02F1/58 |
代理公司: | 北京宣言律师事务所 11509 | 代理人: | 赵建刚 |
地址: | 100195 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 废水 反应器 | ||
技术领域
本实用新型涉及废水处理技术领域,尤其是涉及一种废水除硫反应器。
背景技术
含硫废水本身作为环保水处理行业的一个难题,典型废水如焦化蒸氨废水、石油炼制废水等,其中以硫化物危害最为突出,硫化物含量超过100mg/L,对废水生化处理系统具有非常强的抑制作用,轻则对系统造成冲击,重则可能导致生化系统全线崩溃。常规硫化物的去除方法主要是通过投加亚铁盐,二价硫离子与亚铁离子形成硫化亚铁沉淀,从水中得到分离,现有技术中的工艺面临的主要问题是药剂投加量大,运行成本高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于设计一种新型的废水除硫反应器,解决上述问题。
为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案如下:
一种废水除硫反应器,包括二次接触反应槽、混合搅拌系统、沉淀分离系统和污泥回流装置;
所述沉淀分离系统包括沉淀分离槽,所述沉淀分离槽的底部连通到泥渣出口;所述沉淀分离槽的上部设置出水口,所述二次接触反应槽上设有进水口;
所述二次接触反应槽设置在所述沉淀分离槽的内部,并且所述二次接触反应槽的底部设置开口与所述沉淀分离槽相通;所述二次接触反应槽内设置所述混合搅拌系统;
所述污泥回流装置包括泥渣回流泵,所述泥渣回流泵的进口设置在所述沉淀分离槽的底部,所述泥渣回流泵的出口连通到所述二次接触反应槽。
所述二次接触反应槽上设置有药剂投放口。
所述沉淀分离槽的上部设置出水槽,所述出水槽中设置所述出水口。
所述二次接触反应槽的底部四个方向上均设置开口与所述沉淀分离槽相通。
本实用新型的有益效果可以总结如下:
1、本实用新型能够有效地净化含硫废水,具有加药量少,运行成本低,是一种新型实用的含硫废水处理设备。
2、本实用新型结构简单,无复杂零件的加工,使用方便,制造成本低廉。
附图说明
图1为本实用新型侧视方向的结构示意图。
图2为本实用新型俯视方向的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
如图1和图2所示的一种废水除硫反应器,包括二次接触反应槽1、混合搅拌系统2、沉淀分离系统和污泥回流装置;所述沉淀分离系统包括沉淀分离槽3,所述沉淀分离槽3的底部连通到泥渣出口5;所述沉淀分离槽3的上部设置出水口6,所述二次接触反应槽1上设有进水口7;所述二次接触反应槽1设置在所述沉淀分离槽3的内部,并且所述二次接触反应槽1的底部设置开口与所述沉淀分离槽3相通;所述二次接触反应槽1内设置所述混合搅拌系统2;所述污泥回流装置包括泥渣回流泵4,所述泥渣回流泵4的进口设置在所述沉淀分离槽3的底部,所述泥渣回流泵4的出口连通到所述二次接触反应槽1。
在更加优选的实施例中,所述二次接触反应槽1上设置有药剂投放口9。
在更加优选的实施例中,所述沉淀分离槽3的上部设置出水槽8,所述出水槽8中设置所述出水口6。
在更加优选的实施例中,所述二次接触反应槽1的底部四个方向上均设置开口与所述沉淀分离槽3相通。
现有技术中的除硫工艺面临的一个主要障碍是在加亚铁除硫的同时,有相当量的氢氧化亚铁生成,这样会造成系统铁盐的消耗量大大增加,同时碱度的消耗增加了后续的处理成本。
针对传统除硫反应器面临的问题,本实用新型采用把初次沉淀的铁泥进行二次回流,回流后的污泥与进水进行二次接触反应,利用硫化亚铁的溶度积低于氢氧化亚铁这个理论,回流污泥里面的氢氧化亚铁慢慢转换成硫化亚铁,这样一方面减少了亚铁盐的投加量,另一方面通过置换反应产生的氢氧根,可减少后续碱的投加量,节省运行成本。
本实用新型专利二次接触反应槽1:此部分为水、药剂、污泥三者混合区域;混合搅拌系统2为三者充分混合接触提供动力;沉淀分离系统:解决泥水分离问题;污泥回流装置:将沉淀槽底部污泥进行二次提升的目的。
本专利的外形和大小可依据处理水量规模的不同而调整,但内部结构及原理不变。
以上通过具体的和优选的实施例详细的描述了本实用新型,但本领域技术人员应该明白,本实用新型并不局限于以上所述实施例,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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