[实用新型]蚀刻液循环再生处理系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及PCB板工业废水处理技术领域，特别是指一种蚀刻液循环再生处理系统。

背景技术

随着现代信息产业和电子工业的高速发展，PCB板工业发展迅猛，而蚀刻是PCB板生产中的一道重要工序，基本上除了线路以外的铜都需要通过蚀刻工序去掉，成为线路的铜仅占基板面总铜的一部分，另一部分的铜溶解于蚀刻液中。蚀刻是消耗药剂较大的工序，也是产生废蚀刻液和废水最多的工序。蚀刻过程中，蚀刻液会不时从蚀刻槽中排出，同时需要添加新的蚀刻液以保证正常的蚀刻工序进行。

由于废蚀刻液中含有大量的铜，一方面造成了铜的浪费，另一方面严重污染了环境，现如今，PCB行业排放的废蚀刻液每年呈迅速递增趋势，这使得对废蚀刻液再生设备的要求也越来越高，目前的蚀刻液循环再生设备大多存在效率低，成本高，占地面积大等问题，不利于节能环保的理念。

因此，有必要设计一种新的蚀刻液循环再生处理系统，以解决上述技术问题。

发明内容

针对背景技术中存在的问题，本实用新型目的是提供一种蚀刻液循环再生处理系统，结构简单，效率高且成本低，有利于资源回收和循环利用。

本实用新型的技术方案是这样实现的：一种蚀刻液循环再生处理系统，包括蚀刻液槽，与蚀刻液槽连接的废液存储槽，与废液存储槽连接的预处理槽，与预处理槽连接的分离槽，分别与分离槽连接的再生液槽和二次处理槽，与二次处理槽连接的电解槽，再生液槽连接蚀刻液槽，调配槽连接再生液槽，所述蚀刻液槽内设有浓度感应器，浓度感应器连接有控制器，蚀刻液槽和废液存储槽之间设有抽送泵，所述控制器连接抽送泵，所述电解槽内间隔设有阳极板和阴极板。

在上述技术方案中，所述预处理槽为萃取槽。

在上述技术方案中，所述二次处理槽为反萃取槽。

在上述技术方案中，所述废液存储槽连接液面高度传感器，液面高度传感器连接报警器。

本实用新型蚀刻液循环再生处理系统，通过浓度感应器感应蚀刻液中铜离子的浓度，在蚀刻液槽和废液存储槽之间设置抽送泵和控制器，来实时控制铜离子饱和的蚀刻液流入到废液存储槽，再利用预处理槽和二次处理槽以及电解槽对废液存储槽中的废蚀刻液进行处理电解回收铜，同时再生液槽通过及时调配补充到蚀刻液槽中继续进行蚀刻动作。如此循环装置，实现结构简单，效率高且成本低，有利于资源回收和循环利用。

附图说明

图1为本实用新型蚀刻液循环再生处理系统结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1所示，本实用新型所述的一种蚀刻液循环再生处理系统，包括蚀刻液槽1，与所述蚀刻液槽1连接的废液存储槽2，所述废液存储槽2连接液面高度传感器21，所述液面高度传感器21连接报警器22。所述液面高度传感器21用于实时感应废液存储槽2中废蚀刻液的高度，连接的报警器22用于报警提醒所述废液存储槽2中废蚀刻液已到饱和状态。

与废液存储槽2连接的预处理槽3，所述预处理槽3为萃取槽，废液存储槽2中的废蚀刻液流入进所述预处理槽3中进行萃取。与所述预处理槽3连接的分离槽4，所述分离槽4用于对萃取后的废蚀刻液进行分离处理。所述分离槽4连接再生液槽5和二次处理槽6，所述二次处理槽6为反萃取槽。分离槽4将铜离子为100克L的废蚀刻液分离流入到所述再生液槽5中，含有铜离子的萃取剂分离流入到二次处理槽6中与硫酸混合后，铜离子被硫酸反萃后形成硫酸铜溶液。

与所述二次处理槽6连接的电解槽7，所述电解槽7内间隔设有阳极板71和阴极板72。反萃取处理后的硫酸铜溶液进入到电解槽7内进行电解处理，回收铜，达到资源回收的目的。

再生液槽5连接所述蚀刻液槽1，调配槽8连接再生液槽5，如此调配槽8对再生液槽5中的再生液进行调配后再流入到所述蚀刻液槽1中继续进行蚀刻动作。实现资源的循环利用。

所述蚀刻液槽1内设有浓度感应器11，用于实时感应所述蚀刻液槽1中蚀刻液的铜离子浓度。所述浓度感应器11连接有控制器12，所述蚀刻液槽1和废液存储槽2之间设有抽送泵13，所述控制器12连接抽送泵13。根据浓度感应器11的感应来控制抽送泵13的开关抽送铜离子饱和的蚀刻液至所述废液存储槽2中进行下一步的循环处理动作。