[实用新型]一种多功能电容成像传感器

说明书

技术领域

本实用新型属于电容成像领域，涉及一种传感器，特别涉及一种多功能电容成像传感器。

背景技术

电容成像技术是一种新型的无损检测技术，它利用一对电极板中间形成的准静态边缘电场对试块中的缺陷进行检测。电容成像技术是一种非接触式、非侵入式的无损检测方法，这些特征使得电容成像技术克服了常规的涡流检测、电位差法、超声波法的一些局限，并在不同性质的材料中都可以应用。

电容成像传感器的设计是电容成像技术的关键，合理的设计使得电容成像技术可以用于检测绝缘体表面和内部的缺陷以及导体表面的缺陷。值得指出的是，对于体表面缺陷的检测，甚至在导体试块表面覆盖有相对较厚的绝缘层的情况下也能实现。

现存的电容成像传感器在只有一个激励电极和一个检测电极的情况下，只能对特定深度的缺陷进行检测，如果要对不同深度的缺陷进行检测，就需要多个电容成像传感器，一方面增加了检测的成本，另一方面也使得电容成像装置比较复杂；现存电容成像传感器的功能比较单一，只能对平面试块进行检测，而不能对管状物进行检测

发明内容

本实用新型旨在解决上述问题，提供了一种多功能电容成像传感器，其采用的技术方案如下：

一种多功能电容成像传感器，包括连接副I、支架I、连接副II、支架II、连接副III、支架III、连接副IV、支架IV、连接副V、工作电极板I、工作电极板II、连接瓣I、连接瓣II、保护电极、工作电极、绝缘基体和屏蔽电极；连接副I连接着支架I与工作电极板I，连接副II连接着支架I与支架II，连接副III连接着支架II与支架III，连接副IV连接着支架III与支架IV，连接副V连接着支架IV与工作电极板II；支架I、支架II、支架III和支架IV的结构是一样的，连接副I、连接副II、连接副III、连接副IV和连接副V的结构是一样的，都包括连接瓣I和连接瓣II，工作电极板I和工作电极板II的结构是一样的，都包括保护电极、工作电极、绝缘基体和屏蔽电极，工作电极是正方形的，在工作电极的四周分布着保护电极，屏蔽电极被蚀刻在绝缘基板的下表面。

本实用新型的有益效果：

本实用新型的工作电极板I与工作电极板II通过连接副I、支架I、连接副II、支架II、连接副III、支架III、连接副IV、支架IV和连接副V连接在一起，通过调节这些结构，可以改变工作电极板I与工作电极板II的距离，使工作电极板I与工作电极板II的距离不再是固定的，从而能使传感器实现对不同深度的缺陷进行检测，如图1所示。

本实用新型的工作电极板I与工作电极板II通过连接副I、支架I、连接副II、支架II、连接副III、支架III、连接副IV、支架IV和连接副V连接在一起，通过调节这些结构，可以改变工作电极板I与工作电极板II的位置，使得工作电极板I与工作电极板II不再在同一个平面内，改变了传统电容成像传感器的模式，从而能使传感器实现对管状物进行检测，如图2所示。

本实用新型的支架I、支架II、支架III和支架IV的结构是一样的，连接副I、连接副II、连接副III、连接副IV和连接副V的结构是一样的，工作电极板I和工作电极板II的结构是一样的，使得这种电容成像传感器的通用性比较好，便于大规模生产和应用。

本实用新型的工作电极是正方形的，在工作电极的四周分布着保护电极，屏蔽电极被蚀刻在绝缘基体的下表面，这种布置能有效地增加探测深度和测量信号的强度。

附图说明

图1：工作电极板距离不固定的电容传感器；

图2：工作电极板不在同一平面的电容传感器；

图3：本实用新型的示意图；

图4：连接副的剖视图；

图5：支架的结构示意图；

图6：工作电极板的俯视图；

图7：工作电极板的半剖视图；

附图序号说明：1、连接副I2、支架I3、连接副II4、支架II5、连接副III6、支架III7、连接副IV8、支架IV9、连接副V10、工作电极板I11、工作电极板II12、连接瓣I13、连接瓣II14、保护电极15、工作电极16、绝缘基体17、屏蔽电极。

具体实施方式

下面结合附图和具体实例对本实用新型作进一步说明：