[实用新型]一种辅助硅片刻蚀上料整齐的装置有效
| 申请号: | 201520670470.9 | 申请日: | 2015-09-01 |
| 公开(公告)号: | CN205028913U | 公开(公告)日: | 2016-02-10 |
| 发明(设计)人: | 王曼;史磊;钱金梁 | 申请(专利权)人: | 润峰电力有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;B65G47/74 |
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| 地址: | 272000 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 辅助 硅片 刻蚀 整齐 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种在硅片刻蚀工艺中辅助硅片刻蚀上料整齐的装置。
背景技术
目前,在太阳能电池片生产中,刻蚀工艺大多数为人力手动上料,经常会出现上料不整齐的现象,或者是为了上料整齐而推片,从而出现叠片、水膜覆盖不全、药液残留等一系列异常情况,降低了生产效率和电池片质量。
发明内容
为解决现有问题,本实用新型提供了一种辅助硅片刻蚀上料整齐的装置,该能够保证上料时各道硅片整齐一致,减少异常情况发生,降低不良率,提高企业的生产效率和质量。
为实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案:一种辅助硅片刻蚀上料整齐的装置,包括硅片输送装置,所述硅片输送装置侧端并排设置有硅片阻挡装置,所述硅片阻挡装置包括安装架,所述安装架上安装有固定板,所述固定板上安装有气动推进装置,所述气动推进装置的动力输出端安装有挡板,在气动推进装置呈伸展状态时,所述挡板的底面位于硅片输送装置的上方,与硅片相接触;所述气动推进装置侧端的固定板上还安装有感应装置。
进一步,所述气动推进装置为气缸推进。
进一步,所述挡板为PVDF材质挡板。
进一步,所述感应装置为红外感应器。
本实用新型可以有效的保证硅片在刻蚀工艺中要求的硅片整齐度,从而保证生产质量。
附图说明
为对本实用新型做进一步说明,下面列举附图和具体实施方式。
图1一种辅助硅片刻蚀上料整齐的装置主视结构示意图。
图2一种辅助硅片刻蚀上料整齐的装置侧视结构示意图。
具体实施方式
一种辅助硅片刻蚀上料整齐的装置,包括硅片输送装置1,所述硅片输送装置1侧端并排设置有硅片阻挡装置,所述硅片阻挡装置包括安装架7,所述安装架7上安装有固定板2,所述固定板2上安装有气动推进装置3,所述气动推进装置3的动力输出端安装有挡板4,在气动推进装置3呈伸展状态时,所述挡板4的底面位于硅片输送装置1的上方,与硅片6相接触;所述气动推进装置3侧端的固定板2上还安装有感应装置5。
进一步,所述气动推进装置为气缸推进。
进一步,所述挡板为PVDF材质挡板。
进一步,所述感应装置为红外感应器。
显而易见,上述实施方式仅仅为本实用新型的示范性实施例,任何在本实用新型所提供结构及原理的基础上做出的简单改进均属本实用新型的保护范围。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





