[实用新型]化学机械抛光装置用承载头的隔膜及承载头有效
| 申请号： | 201520670183.8 | 申请日： | 2015-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN204954605U | 公开（公告）日： | 2016-01-13 |
| 发明（设计）人： | 孙准皓 | 申请（专利权）人： | K.C.科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 装置 承载 隔膜 | ||
1.一种化学机械抛光装置用承载头的隔膜，其特征在于，包括：
底板，由可挠性材质形成；
侧面，在上述底板的边缘部弯折而成，并由可挠性材质形成，且形成有环形槽；
多个隔板，从上述底板的上表面延伸形成。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜，其特征在于，上述环形槽设置于上述侧面和上述隔板中位于径向向外方向上的最外侧的最外侧隔板之间。
3.根据权利要求2所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜，其特征在于，上述环形槽形成在从上述侧面向半径内侧距离10mm以内的范围内。
4.根据权利要求1所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜，其特征在于，上述环形槽位于隔板的附近。
5.根据权利要求4所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜，其特征在于，上述隔板的附近位于离上述隔板的5mm以内的距离范围内。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜，其特征在于，上述环形槽的宽度为1mm以下。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜，其特征在于，上述环形槽的高度为上述底板的厚度的1/2倍至1倍。
8.根据权利要求1至5中任一项所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜，其特征在于，上述环形槽在上述底板的底面凹入形成。
9.根据权利要求1至5中任一项所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜，其特征在于，上述环形槽以多个列邻接排列。
10.根据权利要求1至5中任一项所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜，其特征在于，上述环形槽在上述底板的上表面凹入形成。
11.一种化学机械抛光装置用承载头，其特征在于，包括：
本体；
底座，与上述本体一同进行旋转驱动；以及
根据权利要求1至5中任一项所述的化学机械抛光装置用承载头的隔膜，其定位于上述底座，并在与上述底座之间形成有压力腔室，从而在化学机械抛光工序中通过控制上述压力腔室的压力来向下方加压位于底面的晶片。
12.根据权利要求11所述的化学机械抛光装置用承载头，其特征在于，上述承载头在化学机械抛光工序中进行往复移动。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于K.C.科技股份有限公司，未经K.C.科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520670183.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种金相试验研磨工装
- 下一篇：具有均匀抛光效果的抛光机
