[实用新型]轮胎衬布整理机有效
申请号: | 201520666962.0 | 申请日: | 2015-08-31 |
公开(公告)号: | CN204980523U | 公开(公告)日: | 2016-01-20 |
发明(设计)人: | 韩宝才;王帅;赵余;赵训红 | 申请(专利权)人: | 双钱集团股份有限公司;双钱集团(重庆)轮胎有限公司 |
主分类号: | B65H23/038 | 分类号: | B65H23/038 |
代理公司: | 重庆市前沿专利事务所(普通合伙) 50211 | 代理人: | 王莹 |
地址: | 200002 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 轮胎 衬布 整理 | ||
技术领域
本实用新型属于轮胎生产设备技术领域,具体地讲,特别涉及一种轮胎衬布整理机。
背景技术
目前,轮胎制造企业在生产轮胎部件时,需要使用到衬布,衬布在使用后需要重新收卷起来,并通过衬布整理机对衬布卷进行重新的纠偏整理收卷,以便衬布卷在轴向上保持宽度整齐一致。衬布整理机主要包括导开辊、卷取辊、以及位于导开辊与卷取辊之间的若干扩布辊和光辊。现有的衬布整理机主要通过在卷取辊或者卷取辊之前的扩布辊或光辊上设置纠偏装置,从而对衬布进行纠偏,其纠偏效果并不理想,并且纠偏装置的结构复杂,只能用于整理宽度小于等于1200mm的衬布。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种纠偏效果好、结构简单的轮胎衬布整理机。
本实用新型的技术方案如下:一种轮胎衬布整理机,包括并排设置的矩形框状第一底架和第二底架,在所述第一底架和第二底架上分别固定有第一导轨和第二导轨,在所述第一导轨和第二导轨上方分别滑动连接有第一支架和第二支架,在所述第一支架与第一底架、第二支架与第二底架之间分别连接有驱动装置,在各自驱动装置的驱动下,所述第一支架和第二支架分别沿第一导轨和第二导轨移动,在所述第一支架上安装有沿第一导轨长度方向布置的导开辊,在所述第二支架上安装有沿第二导轨长度方向布置的第三扩布辊和卷取辊,所述卷取辊与电机的输出轴传动相连,所述电机安装在第二底架上,所述第三扩布辊位于卷取辊与导开辊之间;在所述第一支架与第二支架之间设置有第三支架,在所述第三支架的顶端安装有第二光辊,在第三支架朝向第一支架的一侧自下而上依次安装有第一扩布辊和第一光辊,在所述第三支架朝向第二支架的一侧自上而下依次安装有第三光辊和第二扩布辊。
所述卷取辊的中部为断面呈矩形的方杠。
所述卷取辊的长度大于等于1200mm。
在所述第一/第二/第三扩布辊的表面均开有沿中点对称的两段螺纹。
采用上述结构,将导开辊和卷取辊分别安装在第一支架和第二支架上,第一支架和第二支架在各自驱动装置的驱动下可以分别沿第一导轨和第二导轨移动,使导开辊和卷取辊均可以沿自身的中心线方向移动,这样衬布的导出处和卷取处均可以直接通过导开辊和卷取辊的移动进行纠偏,显著地提高了衬布的纠偏效果。并且,整个轮胎衬布整理机的结构简单、可以将卷取辊的长度增大到大于等于1200mm,当然导开辊、扩布辊和光辊的长度也相应地增大,使卷取衬布的宽度可以扩大到1200mm以上,使用更加方便。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为卷取辊和第三扩布辊的安装结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本实用新型的实施例,所述的实施例示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述实施例是示例性的,旨在解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中,需要说明的是,对于方位词,如有术语“中心”,“横向”、“纵向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于叙述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作,不应理解为限制本实用新型的具体保护范围。此外,如有术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明技术特征的数量。
在本实用新型中,除另有明确规定和限定,如有术语“组装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应作广义去理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;也可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以是通过中间媒介相连,可以是两个元件内部相连通。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述的术语在本实用新型中的具体含义。
在实用新型中,除非另有规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“之下”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅是表示第一特征水平高度高于第二特征的高度。第一特征在第二特征“之上”、“之下”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度低于第二特征。
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