[实用新型]一种酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理装置有效
申请号: | 201520664901.0 | 申请日: | 2015-08-28 |
公开(公告)号: | CN204982051U | 公开(公告)日: | 2016-01-20 |
发明(设计)人: | 罗欢;梅宏;郝冬冬;李强;黎中川 | 申请(专利权)人: | 上海八菱环保科技有限公司 |
主分类号: | C23F1/46 | 分类号: | C23F1/46 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 毕强 |
地址: | 201800 上海市嘉*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 酸性 蚀刻 循环 再生 回收 系统 氯气 处理 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及工业废水处理技术领域,尤其是涉及一种酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理装置。
背景技术
在印刷电路板酸性蚀刻废水的再生工艺中,电解槽阳极会有大量氯气产生。氯气是一种有毒气体,它主要通过呼吸道侵入人体,与黏膜所含的水分接触,生成次氯酸和盐酸,会对上呼吸道黏膜造成损伤:次氯酸使组织受到强烈的氧化;盐酸刺激黏膜发生炎性肿胀,使呼吸道黏膜浮肿,大量分泌黏液,造成呼吸困难。1L空气中最多可允许含氯气1mg,超过这个量就会引起人体中毒。氯气与氢气混合在光照条件下也会发生爆炸。所以如果处理氯气不当的话极易发生危险事故。
现有的技术中,是将氯气通入带有铁粉的氯酸钠溶液中,制成氯化亚铁溶液。由于要尽可能的反应氯气,所以必须要加入过量的铁粉,并且后续的工序还需要沉淀过滤。这种方法处理氯气不但要消耗较多的铁,而且操作复杂,不利于氯气的回收再利用。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理装置,以解决现有技术中存在的处理氯气操作复杂和不利于氯气的回收再利用的技术问题。
本实用新型提供的一种酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理装置,包括氢氧化钠存储装置、稳定剂添加装置和吸收反应装置;所述氢氧化钠存储装置的出液口与所述吸收反应装置的第一进口相连通,所述吸收反应装置的出液口与所述稳定剂添加装置的第一进口相连通;所述吸收反应装置的个数为一个或多个。
进一步地,还包括水洗过滤装置,所述水洗过滤装置的出液口与所述吸收反应装置的第二进口相连通。
进一步地,还包括稳定剂存储装置,所述稳定剂存储装置的出口与所述稳定剂添加装置的第二进口相连通。
进一步地,还包括成品存储装置,所述成品存储装置的进液口与所述稳定剂添加装置的出液口相连通。
进一步地,所述吸收反应装置的第一进口与所述氢氧化钠存储装置的出液口之间设置有换热器。
进一步地,所述稳定剂添加装置的第一进口与所述氢氧化钠存储装置的出液口相连通。
进一步地,所述换热器为管壳式换热器。
进一步地,所述水洗过滤装置的出液口与所述吸收反应装置的第二进口之间设置有离心泵。
进一步地,所述成品存储装置的进液口与所述稳定剂添加装置的出液口之间设置有离心泵。
进一步地,所述稳定剂添加装置的第一进口与所述氢氧化钠存储装置的出液口之间设置有离心泵。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果为:
本实用新型提供的酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理装置,将酸性蚀刻液再生装置产生的氯气收集后,进入吸收反应装置,同时氢氧化钠存储装置中的氢氧化钠溶液也进入吸收反应装置,这样氯气与氢氧化钠溶液充分反应生成次氯酸钠和少量氯化钠的混合溶液,当达混合溶液到饱和后,溶液进入到稳定剂添加装置,稳定剂添加装置向溶液中加入能使产生的次氯酸钠的保质期延长的稳定剂,从而完成氯气处理及生成次氯酸钠的过程。本实用新型解决了酸性蚀刻液回收系统氯气的排放问题,让危险废气得到回收再利用,变成有经济价值的合格的次氯酸钠副产品,整个回收过程操作简单、安全节能。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例一提供的酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理装置的结构示意图;
图2为本实用新型实施例二提供的酸性蚀刻液循环再生铜回收系统中氯气处理装置的结构示意图。
附图标记:
101-吸收反应装置;102-氢氧化钠存储装置;103-稳定剂添加装置;104-水洗过滤装置;105-稳定剂存储装置;106-成品存储装置;107-换热器;108-离心泵。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
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