[实用新型]档案盒打印机之吸覆固定装置有效

专利信息
申请号: 201520651022.4 申请日: 2015-08-27
公开(公告)号: CN204894821U 公开(公告)日: 2015-12-23
发明(设计)人: 吴明伟 申请(专利权)人: 吴明伟
主分类号: B41J13/12 分类号: B41J13/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 324400 浙江省衢*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 档案盒 打印机 固定 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及打印机设备领域,具体涉及一种档案盒打印机之吸覆固定装置。

背景技术

传统档案盒只是手写或打印纸皮粘贴在档案盒上,效率低,不美观,或是普通平板打印机不易固定档案盒,打印面高低不平,高的地方会擦到喷头,低的地方离喷头远,打印不清晰;而且档案盒在打印过程中易发生移位或者晃动,这样会严重影响打印效果,甚至导致档案盒报废而白白浪费掉。

发明内容

针对上述问题,本实用新型所要解决的技术问题是提供一种档案盒打印机之吸覆固定装置,其设有吸覆平台,吸覆平台通过吸覆方式使档案盒平整地覆盖在打印平台上,易于打印,打印清晰。

为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案是,一种档案盒打印机之吸覆固定装置,包括机架和设置在机架上的打印机,其结构特点是,所述打印机呈门字形,其两端通过传动轴设置在机架上;所述机架上还设有吸覆平台,所述吸覆平台为中空结构,其上表面设有多个吸覆小孔;在吸覆平台一侧设有管道口,该管道口连接管道,而管道连接到风机上。

本实用新型在使用时将档案盒放置在吸覆平台上,然后打开风机进行工作,因吸覆平台为中空结构,风机工作时将吸覆平台内的空气排出,使吸覆平台内形成负压区域;由于吸覆平台上表面设有吸覆小孔,档案盒放置在其上之后,档案盒上下两面存在压强差,其上表面的压强大于下表面的压强,所以档案盒因压力平整的吸覆在吸覆平台上,使得档案盒打印时能够平整清晰。

优选地,所述吸覆平台通过支架设置在机架上,而在吸覆平台的两侧均设有挡块,在吸覆平台上与管道口相反的一端设有挡片。挡块以及挡片可以将档案盒的边角加以固定,避免其影响打印效果。

优选地,所述吸覆小孔从吸覆平台中间位置向四周分布逐渐分散。因档案盒中间位置处的折痕比较深,需要较大的压力才会使其比较平整,所以吸覆小孔在与档案盒中间位置对应处会比较密集。

优选地,所述吸覆平台为可升降结构。吸覆平台设计为可升降结构的话,除了可以打印档案盒外,也可以打印其他东西,在打印其他东西时,只要根据所打印的东西调节吸覆平台的高度就可以了。

与现有技术相比,本实用新型在使用时将档案盒放置在吸覆平台上,然后打开风机进行工作,因吸覆平台为中空结构,风机工作时将吸覆平台内的空气排出,使吸覆平台内形成负压区域;由于吸覆平台上表面设有吸覆小孔,档案盒放置在其上之后,档案盒上下两面存在压强差,其上表面的压强大于下表面的压强,所以档案盒因压力能平整的吸覆在吸覆平台上,使得档案盒打印时能够平整清晰。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

图2为本实用新型之吸覆平台结构示意图。

具体实施方式

为详细说明本实用新型之技术内容、构造特征、所达成目的及功效,以下兹例举实施例并配合附图详予说明。

参照图1和图2所示,本实用新型档案盒打印机之吸覆固定装置包括机架1和设置在机架1上的打印机2,其中,打印机2呈门字形,其两端通过传动轴4设置在机架1上;而机架1上还设有吸覆平台3,该吸覆平台3为中空结构,其上表面设有多个吸覆小孔32,因档案盒中间位置处的折痕比较深,需要较大的压力才会使其比较平整,所以吸覆小孔32从吸覆平台3中间位置向四周分布逐渐分散。在吸覆平台3一侧设有管道口31,该管道口31连接管道9,而管道9连接到风机8上。

在使用本实用新型时,先打开打印机控制开关11,然后将档案盒放置在吸覆平台3上,将档案盒的边角固定在挡块6和挡片7内,接着打开风机控制开关10就可将档案盒平整的吸覆在吸覆平台3上。因吸覆平台3为中空结构,风机8工作时将吸覆平台3内的空气排出,使吸覆平台3内形成负压区域;而且由于吸覆平台3上表面的吸覆小孔32,档案盒放置在其上之后,档案盒上下两面存在压强差,其上表面的压强大于下表面的压强,所以档案盒打印时能够平整放置。

本实用新型中吸覆平台3可以采用可升降结构,吸覆平台3设计为可升降结构的话,除了可以打印档案盒外,也可以打印其他东西,在打印其他东西时,只要根据所打印的东西调节吸覆平台3的高度就可以了。

综上所述,仅为本实用新型之较佳实施例,不以此限定本实用新型的保护范围,凡依本实用新型专利范围及说明书内容所作的等效变化与修饰,皆为本实用新型专利涵盖的范围之内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吴明伟,未经吴明伟许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520651022.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top