[实用新型]显示基板和显示装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板和包含该显示基板的显示装置。

背景技术

LCD制作工艺中的一个重要工艺步骤是取向工艺。目前在LC取向工艺中，只有摩擦取向工艺和光取向工艺可以实现量产。其中，摩擦取向工艺是一种接触式取向，该工艺虽然可以获得较好的取向能力，但是工艺中会存在摩擦阴影区(Rubbingshadow)，静电，划伤等类型的问题。

在影响取向效果的因素中，隔垫物(PS)是不能避免的因素。PS隔垫物具有一定的高度(2.5um～5um)，其设置在显示区域中，以确保液晶盒厚度稳定。图1为现有的一种彩膜基板的剖视图。如图1所示，彩膜基板由下而上依次包括玻璃基板1、黑矩阵2、彩膜层(RGB)3、有机平坦层4、隔垫物5和取向层6。该彩膜基板在实际应用中不可避免地存在以下问题：

其一，取向层6覆盖在隔垫物5之上，导致取向工艺的难度增加。

其二，由于这些隔垫物的存在，在取向时总存在取向布纤维摩擦不到的地方，形成隔垫物阴影区(PSshadow)。同时，隔垫物也会损伤摩擦取向布，导致在摩擦取向布在摩擦其他显示区域时，对这些区域产生影响，而且LCD的分辨率越高，这种影响效果越明显。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种显示基板和显示装置，其不仅可以降低取向工艺的难度，而且可以消除摩擦阴影区，从而可以提高显示装置的显示品质。

为解决上述技术问题，作为本实用新型的第一个方面，本实用新型提供一种显示基板，包括隔垫物和取向层，所述隔垫物设置在所述取向层之上。

优选的，在所述取向层上，且与所述隔垫物相对应的位置处形成有过孔，所述隔垫物位于所述过孔内。

其中，所述显示基板包括有机平坦层，所述取向层设置在所述有机平坦层之上；所述隔垫物通过所述过孔与所述有机平坦层相接触。

其中，所述显示基板包括有机平坦层，所述取向层设置在所述有机平坦层之上。

其中，所述显示基板为彩膜基板。

其中，所述彩膜基板包括由下而上依次设置的玻璃基板、黑矩阵和彩膜层；所述有机平坦层设置在所述彩膜层之上。其中，所述显示基板为阵列基板。作为本实用新型的第二个方面，还提供一种显示装置，包括本实用新型提供的上述显示基板。

其中，所述显示装置包括阵列基板和与该阵列基板对盒设置的彩膜基板；所述显示基板为所述阵列基板。

其中，所述显示装置包括阵列基板和与该阵列基板对盒设置的彩膜基板；所述显示基板为所述彩膜基板。

本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型提供的显示基板，其通过将隔垫物设置在取向层之上，不仅可以降低取向工艺的难度，而且可以消除摩擦阴影区，从而可以提高显示装置的显示品质。

本实用新型提供的显示装置，其通过采用本实用新型提供的上述显示基板，不仅可以降低取向工艺的难度，而且可以消除摩擦阴影区，从而可以提高显示装置的显示品质。

附图说明

附图是用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型，但并不构成对本实用新型的限制。

图1为现有的一种彩膜基板的剖视图；

图2为本实用新型第一实施例提供的显示基板的剖视图；

图3为本实用新型第二实施例提供的显示基板的剖视图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。

本实用新型提供一种显示基板，包括隔垫物和取向层，该隔垫物设置在取向层之上。这不仅可以降低取向工艺的难度，而且可以消除摩擦阴影区，从而可以提高显示装置的显示品质。

第一实施例

图2为本实用新型第一实施例提供的显示基板的剖视图。请参阅图2，在本实施例中，显示基板为彩膜基板，该彩膜基板由下而上依次设置有玻璃基板10、黑矩阵11、彩膜层(RGB)12、有机平坦层13、取向层15和隔垫物14。即：有机平坦层13设置在彩膜层12之上；取向层15设置在有机平坦层13之上；隔垫物14设置在取向层15之上。