[实用新型]一种玻璃高精度抛光研磨生产设备有效
| 申请号: | 201520603232.6 | 申请日: | 2015-08-11 |
| 公开(公告)号: | CN204843870U | 公开(公告)日: | 2015-12-09 |
| 发明(设计)人: | 艾春前 | 申请(专利权)人: | 东莞晶石光学有限公司 |
| 主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02;B24B37/27;B24B37/34 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 玻璃 高精度 抛光 研磨 生产 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及玻璃制造的技术领域,具体涉及一种玻璃高精度抛光研磨生产设备。
背景技术
近来,随着技术革新,如半导体装置高集成化,玻璃等材料的超高精度加工等,材料的高精度镜面抛光已经成为必需。抛光是利用柔性抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。抛光不能提高工件的尺寸精度或几何形状精度,而是以得到光滑表面或镜面光泽为目的,有时也用于消光。抛光通常以抛光轮作为抛光工具,抛光轮一般用多层帆布、毛毡或皮革叠制而成,两侧用金属原版夹紧,其轮缘涂敷由微粉磨料和油脂等均匀混合而成的抛光剂。
玻璃的抛光是一个复杂的物理化学变化过程,影响抛光效果的两个主要因素为:表面研磨压力和研磨速度。现有玻璃抛光技术,一般在抛光上盘贴上自吸附垫,自吸附垫在湿润时,贴上玻璃,并进行压平,此时,玻璃即可以牢固地吸附在抛光上盘,这种方式对ITO(IndiumTinOxides,纳米铟锡金属氧化物)所使用的薄玻璃(厚度在1.1mm以下)较为适用,但制作铬板用的玻璃通常比较厚,一般为3mm或4.8mm,对这种类型的玻璃进行抛光处理时,如果自吸附垫太干,或者即使自吸附垫湿度合适,但玻璃尺寸较大,这些情况都会造成对玻璃吸附不牢固,在抛光过程中玻璃容易被甩出,造成生产事故,如果自吸附垫太过湿润,又容易造成对玻璃吸附太紧,在抛光完成后难以将玻璃取下。
目前,市场上尚无结构合理,并且研磨精度高、研磨速度快、操作方便的玻璃连续抛光研磨设备。
实用新型内容
为了解决上述问题,本实用新型公开的一种玻璃高精度抛光研磨生产设备,通过抛光辅材及研磨液体池,设置研磨模具,对弧面玻璃产品进行高精度重复研磨。
本实用新型为实现上述目的所采用的技术方案是:
一种玻璃高精度抛光研磨生产设备,其特征在于:其设置研磨液体池,在该研磨液体池内放置三个研磨模具,每个研磨模具上方连接一上下周期活动的研磨装置,每个研磨模具侧方设有输水装置,所述输水装置包括输水出水管、水阀以及水泵,所述水泵通过水管连接研磨液体池的底部,并通过另一水管连接一分流管,所述分流管连接每个水阀;
所述上下周期活动的研磨装置包括上下周期活动机构、电动机以及设置在上下周期活动机构上,并与电动机连接的研磨针。
所述水阀设置在所述上下周期活动的研磨装置的侧方,所述水阀连接的输水出水管的出水口设置在研磨模具侧上方。
所述研磨模具包括上模、下模,所述上模设有连接研磨针的凹槽,所述研磨针连接所述研磨模具的上模;所述上模还包括上模模座以及上模模仁,该上模模仁包括半球状的凹嵌部,该凹嵌部固定有一薄层磨皮。
所述下模包括下模模座以及下模模仁,该下模模仁包括半球状的凸起玻璃吸附部,玻璃吸附在所述玻璃吸附部上;所述上模模仁凹嵌部与下模模仁凸起玻璃吸附部相适配。
本实用新型的优点在于:针对目前市场上的玻璃研磨设备的不足,本实用新型设置的研磨液体池,在该研磨液体池中放置抛光粉,并在研磨液体池中设置研磨模具,研磨模具与产品呈同一弧面,并在研磨面上设置薄层磨皮,通过上下周期活动的研磨装置驱动研磨针以及上模对玻璃产品进行周期性重复研磨,制造出符合产品要求的弧面玻璃产品。
下面结合附图与具体实施方式,对本实用新型进一步说明。
附图说明
图1为本实施例的玻璃高精度抛光研磨生产设备整体结构示意图;
图2为图1中A部位放大结构示意图;
图3为本实施例的研磨模具结构示意图。
图中:1.研磨液体池,2.研磨模具,21.上模,211.凹槽,212.上模模座,213.上模模仁,214.凹嵌部,22.下模,221.下模模座,222.下模模仁,223.凸起玻璃吸附部,3.研磨装置,31.上下周期活动机构,32.电动机,33.研磨针,4.输水装置,41.输水出水管,42.水阀,43.水泵,44.水管,45.分流管。
具体实施方式
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