[实用新型]一种上颌窦提升基台有效

专利信息
申请号: 201520602043.7 申请日: 2015-08-12
公开(公告)号: CN204951195U 公开(公告)日: 2016-01-13
发明(设计)人: 郑明;童新文;程辉;陈润;于皓;张长源 申请(专利权)人: 郑明
主分类号: A61C8/00 分类号: A61C8/00
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350000 福建省福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 上颌 提升
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种上颌窦提升基台。

背景技术

在上颌后牙区进行种植手术时,常常因为上颌窦的原因导致窦底骨高度不足,需要进行

上颌窦提升术。目前上颌窦提升术是一个成功率很高的手术,成功的关键之一是保持植体稳定。美国BICON种植系统专门设计了一种基台(窦提升基台,如图1所示)来保持它的植体(即螺纹柱)稳定。

这是个非常有创意并卓有成效的设计,在临床获得极高的成功率,我们在使用过程中发现有可改进提高的地方。

BICON原厂窦提升基台有以下不足:

1、窦底骨高度低于3毫米时,植体(即基台1)无法与周围骨组织紧密接触,不能获得足够的初期稳定性;

2、有些病例的下方骨平面非水平时,容易导致植体长轴(即螺纹柱2)歪斜;

3、原厂窦提升基台很难完整没入骨内,会导致基台突出骨平面较多,牙龈不易拉拢缝合,容易导致创口裂开;

4、上颌窦提升手术4个月后需要二期手术将基台取出,原厂设计基台中心为圆形设计(即圆形沉槽11),没有相应配套工具,导致二期较难拆卸窦提升基台。

实用新型内容

本实用新型针对上述现有技术存在的问题做出改进,即本实用新型所要解决的技术问题是提供一种上颌窦提升基台,能够与骨组织紧密接触,稳定性好,适应性好,便于安装拆卸。

为了解决上述技术问题,本实用新型的技术方案是:一种上颌窦提升基台,包括基台本体,所述基台本体下表面中部设置有固定柱,所述固定柱上套设有螺纹柱,所述基台本体下表面上还设置有环绕螺纹柱的环形壁,所述基台本体侧壁呈外凸的圆弧形,且其横截面呈上窄下宽状,所述基台上表面中部设置有三角形螺口。

进一步的,所述环形壁不与螺纹柱相接触。

本装置用于配合Bicon种植体上颌窦提升手术时固定植体(即螺纹柱),特别是用于牙槽骨高度较小采用常规的窦提升基台无法获得足够的稳定时,

环形壁有一定的高度,有不同的直径,环形壁与螺纹柱之间有一定的间隙;

呈外凸的圆弧形基台侧壁,类似于球面,厚度较小,可以减少粘膜张力,降低创口裂开、缝线(10)脱落的风险;

三角形螺口有一定深度和高度。

环形壁有一定的高度,便于与牙槽骨充分接触而获得固位力,帮助Bicon种植体获得初期稳定性。环形壁有不同的直径,使之适用于不同直径的植体,且环形壁的直径较牙槽骨上预备的植体窝洞直径略宽,使得基台能够卡紧在牙槽骨上为种植体提高足够的稳定性。环形壁与植体之间有一定的间隙使得种植体的就位不受环形壁的影响。

位于基台上表面三角形螺口有一定的高度和深度,有匹配三角形高度的三角形螺丝刀,一定深度的螺口便于螺丝刀卡紧在基台上,便于基台携带及拆卸。

将植体固定在上颌窦底牙槽骨上,该基台通过环形壁与牙槽骨卡紧,呈外凸的圆弧形基台面使得粘膜张力小缝合后创口不易裂开,基台上表面有三角形螺口便于基台拆卸。

与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:

1、在基台下部设计一个环形壁,利用残留窦底骨壁获得固位,在窦底骨高度严重不足时仍可保持植体稳定;

2、由于环形壁与残留骨壁的嵌合作用,引导种植体长轴(螺纹柱)遂行钻头方向,即使在非水平的下方骨平面时都能保持植体稳定且长轴不容易歪斜;

3、原厂基台底部为平面,修改为圆弧形并修改高度,使基台贴紧骨平面,减少牙龈张力便于拉拢缝合,创口不易裂开;

4、基台上部的圆形凹陷改成三角形螺口,可以使用市售匹配的三角形螺丝刀,旋转取出基台。

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步详细的说明。

附图说明

图1为原有结构的构造示意图。

图2为本实用新型实施例的构造示意图。

图3为本实用新型实施例中基台上表面的构造示意图。

图中:1-原有的基台,11-圆形沉槽,12-固定柱,2-螺纹柱,3-新的基台本体,31-三角形螺口,4-环形壁。

具体实施方式

实施例一:如图2~3所示,一种上颌窦提升基台,包括基台本体3,所述基台本体3下表面中部设置有固定柱12,所述固定柱12上套设有螺纹柱2,所述基台本体3下表面上还设置有环绕螺纹柱的环形壁4,所述基台本体3侧壁呈外凸的圆弧形,且其横截面呈上窄下宽状,所述基台上表面中部设置有三角形螺口31。

本实施例中,所述环形壁4不与螺纹柱2相接触。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,凡依本实用新型申请专利范围所做的均等变化与修饰,皆应属本实用新型的涵盖范围。

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