[实用新型]一种近耦合或密耦合集成电路卡有效
| 申请号: | 201520576106.6 | 申请日: | 2015-08-04 |
| 公开(公告)号: | CN204856563U | 公开(公告)日: | 2015-12-09 |
| 发明(设计)人: | 谭宏伟 | 申请(专利权)人: | 谭宏伟 |
| 主分类号: | G06K19/077 | 分类号: | G06K19/077 |
| 代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 白振宇 |
| 地址: | 110028 辽宁省沈阳市*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 耦合 集成 路卡 | ||
1.一种近耦合或密耦合集成电路卡,包括上层主体、下层主体、线圈及芯片,其中上、下层主体相连,所述下层主体朝向上层主体的表面上分别设有线圈凹槽及芯片凹槽,所述线圈及芯片分别容置于该线圈凹槽及芯片凹槽内,夹在所述上、下层主体之间;其特征在于:所述上层主体(1)为双层结构,即所述上层主体(1)的一面与所述下层主体(2)连接,另一面设有吸波导磁层(7)。
2.按权利要求1所述的近耦合或密耦合集成电路卡,其特征在于:所述上层主体(1)另一面的边缘沿厚度方向向上延伸、形成吸波导磁层凹槽(8),所述吸波导磁层(7)容置于该吸波导磁层凹槽(8)内。
3.按权利要求2所述的近耦合或密耦合集成电路卡,其特征在于:所述吸波导磁层(7)的上表面与上层主体(1)边缘的上表面共面。
4.按权利要求2所述的近耦合或密耦合集成电路卡,其特征在于:所述上层主体(1)及下层主体(2)的形状相同,位于所述吸波导磁层凹槽(8)下方的上层主体(1)的厚度与吸波导磁层(7)的厚度相同,且为所述下层主体(2)厚度的二分之一。
5.按权利要求1所述的近耦合或密耦合集成电路卡,其特征在于:所述上层主体(1)、下层主体(2)及吸波导磁层(7)的形状相同,所述上层主体(1)的厚度与吸波导磁层(7)的厚度相同,且为所述下层主体(2)厚度的二分之一。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于谭宏伟,未经谭宏伟许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520576106.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:叠层铁心的树脂密封方法
- 下一篇:智能分接头





