[实用新型]挂镀生产线有效

专利信息
申请号: 201520550657.5 申请日: 2015-07-27
公开(公告)号: CN204849084U 公开(公告)日: 2015-12-09
发明(设计)人: 谢彪 申请(专利权)人: 谢彪
主分类号: C25D17/00 分类号: C25D17/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518104 广东省深圳市宝安区沙井后亭*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 生产线
【说明书】:

【技术领域】

实用新型涉及电镀领域,尤其涉及一种挂镀生产线。

【背景技术】

电镀生产线按照电镀方式可以细分为挂镀生产线、滚镀生产线、连续镀生产线、刷镀生产线、环形电镀生产线、直线龙门电镀生产线及塑料电镀自动生产线等。其中,环形生产线是常用的一种生产线方式,而环形升降生产线在现有实际应用中存在问题,如由于产品工艺要求及工艺条件的限制,为了使环形生产线中的待电镀产品可以顺利进入不同电镀工段进行电镀,需要将待电镀产品重复升降并进出电镀液槽,此外,由于待电镀的产品的形状、大小不一,采用升降的方式进行电镀,所需电镀的产品自下而上进行电镀液中,悬挂于挂具上产品的下端与电镀液接触并反应的时间明显长于产品上端,这导致产品上端与下端的电镀时间相差较大,从而影响获得最终电镀产品的质量。

而直线龙门电镀生产线则是采用龙门吊车来吊运电镀零件,电镀用的各种缸体平行布置成一条直线或多条直线,采用吊车沿轨道做直线运动,利用吊车上的一队或两队升降吊钩来吊运,从而可实现直线式空门电镀生产,采用直线空门电镀生产线主要适用于镀槽长度较大的自动线。但是采用直线龙门电镀生产线占地较大,整个生产线的能耗较高,使电镀成本较高。

现有技术中电镀产品跳缸操作一般选用升降方式进行,采用上述的跳缸方式无法应用于如沙丁镍液等需要相对静止状态的电镀工艺生产线中。

【实用新型内容】

为克服目前电镀生产线上下移动所带来的系列问题,本实用新型提供一种结构简单、具有较佳电镀效果的挂镀生产线。

本实用新型为解决技术问题提供了一种挂镀生产线,其用于给多个待电镀产品进行电镀,所述挂镀生产线包括一处理前翻转区、一处理反应区及一处理后翻转区,所述处理前翻转区与所述处理反应区之间、及所述处理反应区与所述处理后翻转区之间均设有至少一过渡隔板,所述过渡隔板包括至少一过渡槽口。

优选地,所述过渡槽口设置有一倾斜边,所述倾斜边与垂直方向上的夹角为60°-85°,倾斜边上设有导轮。

优选地,所述处理反应区内液体的最高液位高于所述处理前翻转区及处理后翻转区内液体的最高液位。

优选地,所述处理前翻转区与处理反应区之间的过渡隔板包括至少一第一过渡隔板,所述处理后翻转区与处理反应区之间的过渡隔板包括至少一第二过渡隔板,所述第一过渡隔板与所述第二过渡隔板之间设置有至少一第三过渡隔板,所述第三过渡隔板上设置有导向槽口,所述导向槽口的最低处低于所述过渡槽口的最低处。

优选地,在所述处理前翻转区,待电镀产品最低处逐渐上移,在所述处理后翻转区,待电镀产品最低处逐渐下移。

优选地,所述挂镀生产线进一步包括一槽体,所述过渡隔板设置在所述槽体内,所述槽体包括至少一第一端板与一第二端板,所述过渡隔板设置在所述第一端板与所述第二端板之间,所述第一端板及第二端板上均设有至少一凹形槽口,所述过渡槽口的最低处高于所述凹形槽口的最低处。

优选地,所述过渡槽口、所述导向槽口及所述凹形槽口均沿着同一轴向设置。

优选地,所述挂镀生产线进一步包括一传送带,所述待电镀产品装载于所述传送带上,所述传送带穿过所述过渡槽口。

优选地,所述传送带在过渡槽口为倾斜状态。

优选地,所述处理反应区包括一镀沙丁镍段,所述挂镀生产线进一步包括镀冲击镍/铜段及镀镍钴段,所述传送带连续穿过所述镀沙丁镍段、镀冲击镍/铜段及镀镍钴段。

相对于现有技术,首先本实用新型提供了一种挂镀生产线,其中,在所述处理前翻转区与所述处理反应区之间、及所述处理反应区与所述处理后翻转区之间均设有至少一过渡隔板,该过渡隔板作为分隔板,可防止上述功能区之间液体相互流动,从而使所述处理反应区相对于所述处理前翻转区及处理后翻转区独立运行。

所述过渡隔板包括至少一过渡槽口,所述过渡槽口上还设有一倾斜边,待电镀产品可通过倾斜边的倾斜角度60°-85°后最低处提升从而跨过所述过渡隔板上设置的过渡槽口,实现连续挂镀操作,为待电镀产品进行连续电镀提供一种新型的挂镀生产线,从而减少了由于待电镀产品上下移动而对电镀液造成过大的扰动,还可使待电镀产品的上端与下端镀上均匀的镀层。

本实用新型所提供的挂镀生产线中,在所述处理前翻转区,待电镀产品最低处逐渐上移,在所述处理后翻转区,待电镀产品最低处逐渐下移,从而可实现待电镀产品在进入或送出所述处理反应区时,均可平稳过渡,而不会出现急停或高度变化过快的情况,从而可以更进一步保持所述处理反应区内电镀液的相对静止状态。

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