[实用新型]一种双X射线源血液辐照装置

说明书

技术领域

本发明涉及血液辐照仪技术领域，尤其涉及一种双X射线源血液辐照装置。

背景技术

输血相关性移植物抗宿主病(TA-GVHD)是免疫缺损或免疫抑制的患者不能清除输入血液中具有免疫活性的淋巴细胞，使其在体内植活、增殖，将患者的组织器官识别为非己物质，并作为靶目标进行免疫攻击、破坏的一种致命性输血并发症。TA-GVHD临床表现缺乏特异性，极易漏诊和误诊。

有研究表明引起TA-GVHD的受体输入淋巴细胞数量应大于10⁷/kg，如若低于10⁵/kg则不会引起TA-GVHD。但有报道对免疫缺陷的儿童仅10⁴/kg淋巴细胞即引发TA-GVHD。总之输入供体的淋巴细胞数量越多其病情越严重,死亡率也就越高。

目前认为输血前对血制品进行照射，是预防TA-GVHD惟一有效的方法。其机制是：淋巴细胞对射线敏感，通过适当剂量的射线照射，可使免疫活性淋巴细胞灭活，丧失增殖能力。而对红细胞、血小板的功能及凝血因子活性影响不大。现在发达国家应用率已达30％～40％。

血液辐照仪就是一种使用射线照射血液或血液制品，对淋巴细胞进行灭活，预防输血活动中TA-GVHD疾病的医疗设备。

从射线源分，血液辐照仪可以分为两类，一类是采用放射源(主要是Cs-137、Co-60)产生的γ射线照射血液或血液制品，一类是采用X光管产生的X射线照射血液或血液制品。放射源型血液辐照仪设备需要装配几百到上千居里的同位素放射源，这存在着潜在的核泄漏风险。而X光源型血液辐照仪则没有核泄漏的风险，设备断电就没有任何射线产生。

不过，X光源型血液辐照仪存在X射线能量低、单源辐照不均匀的缺点，不能满足血液辐照仪标准中对辐射均匀性的要求(国标要求血液辐照仪辐照的非均匀性<20％)。普通X光源产生的X光子能量一般在200keV以下，它在照射血液或血液制品过程中，很容易被浅层的血液大量吸收，使得到达深处的X光子数量迅速减少。

为了克服单源辐照X光源型血液辐照仪的缺点，双源辐照的方案被提出来。通过在血袋容器上下两个方向对称放置一个X光源，其能够显著提高辐照的均匀性。但如图1所示，由于双X光源方案其横向方向的辐射场均匀范围有限，使得整个辐照场中只能有一小部分区域能够放置血袋接受辐照，而大部分区域的射线均被浪费。

发明内容

针对上述问题，本发明的目的是提供一种双X射线源血液辐照装置，包括：

辐照腔体，以及设置在辐照腔体内部的X射线源和用于盛放血袋的血袋容器，所述血袋中承载有待辐照血液或血液制品，所述X射线源的数量为两个以上，其分别设置于血袋容器的上方与下方，且两个X射线源之间，其在水平投影面上的位置相互错开，所述辐照腔体的内壁上设有X射线反射层。

进一步，所述辐照腔体的外部设有X射线吸收层。

进一步，所述X射线源的数量为两个。

进一步，所述X射线反射层由原子序数少于10的元素所组成的材料构成。

进一步，所述X射线反射层由聚乙烯构成。

进一步，所述X射线吸收层由原子序数大于50的元素所组成的材料构成。

进一步，所述X射线吸收层由重金属材料构成。

进一步，所述重金属材料为铅、钨。

进一步，所述X射线反射层的厚度小于10CM。

本发明为一种双X射线源血液辐照装置，其通过将上下两个X光源相互错开，增加均匀辐射场的面积，从而增大能够放置血液或血液制品的面积，对X光源的利用更加充分。

附图说明

图1为现有技术中的辐照剂量场强度的示意图；

图2为本发明中整体结构原理示意图；

图3为本发明中辐照剂量场强度的示意图；

图4为本发明中两X射线源位置关系的示意图。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施例对本发明作进一步详细的说明。

请参阅图2至图4，本发明一个实施例提供一种双X射线源血液辐照装置，包括：

辐照腔体，以及设置在辐照腔体内部的X射线源和用于盛放血袋的血袋容器5，所述血袋中承载有待辐照血液或血液制品，所述X射线源的数量为两个以上，其分别设置于血袋容器5的上方与下方，且两个X射线源之间，其在水平投影面上的位置相互错开，所述辐照腔体的内壁上设有X射线反射层3。

优选的，所述X射线源的数量为两个。