[实用新型]一种硅片清洗摇动装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及单晶硅片清洗过程中用到的辅助清洗装置，具体为一种硅片清洗摇动装置。

背景技术

单晶硅片在抛光前后均需要对硅片进行清洗，抛光前的清洗可以使硅片表面更加干净，蜡层附着更均匀，抛出的硅片有更好的表面质量；抛光后的清洗，可以除去抛光后粘附在硅片表面的有机物和无机物，使抛光硅片更好的满足工艺的要求。

现有的硅片清洗过程通常是在硅片清洗机上进行，清洗时将装有硅片的片盒放置在清洗机的化学液清洗槽内，通过循环泵对清洗槽内的清洗液进行循环流动，并辅以兆声/超声作用来对硅片进行清洗。此种清洗方式，硅片在清洗过程中静止不动，仅依靠循环泵产生化学液流动来清洗，清洗效率过低，加之由于硅片之间的间隙很小，兆声/超声的作用有限，只能把硅片表面的异物疏松，并不能将其更好地剥落到化学液里。硅片表面或者硅片靠近片盒的边缘也容易残留化学液及其它颗粒等异物，造成清洗时间过长，返洗率高，影响生产效率和产品质量。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种硅片清洗摇动装置，以使硅片在清洗过程中能够上下运动，并在硅片表面产生流动的清洗水流，从而提高硅片的清洗效率和清洗能力。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案是：一种硅片清洗摇动装置，包括一个气缸、升降架和硅片承载架，升降架由水平设置的连接轴和竖直设置在连接轴两端的立杆组成，连接轴与气缸活塞杆的伸缩端连接，以使升降架在气缸驱动下做往复升降运动，与两个立杆相对应的位置分别设有一个导向柱，立杆通过其侧部设置的滑块滑动设置在导向柱的导槽内，硅片承载架包括一个底板，底板上设有多个凸起块，多个凸起块与底板之间形成用于放置硅片清洗篮的卡槽，底板上分布有多个透水孔，底板的两侧各设有两个连接杆，同一侧的两个连接杆的顶端由一个耳板连接，两个耳板分别与升降架的两个立杆的顶端连接，以使硅片承载架在升降架带动下能够在硅片清洗机的清洗槽内上下运动。

有益效果：本实用新型通过气缸驱动升降架运动，进而通过硅片承载架带动装载有硅片的清洗篮在清洗槽内做往复升降运动，从而通过硅片表面产生的流动清洗水流对硅片进行清洗，有效提高了硅片的清洗能力和清洗效率，返洗率低、产品质量好。本实用新型的运动由气缸驱动控制，容易调节硅片承载架的运动幅度和频率，便于与现有的硅片清洗机组合使用。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为硅片承载架的主视图。

图3为硅片承载架的俯视图。

图中标记：1、电磁阀，2、压空管道，3、气缸，4、连接轴，5、导向柱，6、立杆，7、硅片承载架，71、底板，72、连接杆，73、耳板，74、透水孔，75、凸起块，8、硅片清洗篮。

具体实施方式

如图所示，一种硅片清洗摇动装置，包括一个气缸3、升降架和硅片承载架7，升降架由水平设置的连接轴4和竖直设置在连接轴4两端的立杆6组成，连接轴4与气缸活塞杆的伸缩端连接，以使升降架在气缸3驱动下做往复升降运动，与两个立杆6相对应的位置分别设有一个导向柱5，立杆6通过其侧部设置的滑块滑动设置在导向柱5的导槽内，导向柱5的设置使升降架的升降运动更加平稳，硅片承载架7包括一个底板71，底板71上设有多个凸起块75，多个凸起块75与底板71之间形成用于放置硅片清洗篮8的卡槽，底板71上分布有多个透水孔74，底板71的两侧各设有两个连接杆72，同一侧的两个连接杆72的顶端由一个耳板73连接，两个耳板73分别与升降架的两个立杆6的顶端连接，以使硅片承载架7在升降架带动下能够在硅片清洗机的清洗槽内上下运动，待清洗的硅片放置在硅片清洗篮8内，随硅片承载架7在清洗槽内上下往复运动，从而通过硅片与清洗液水流之间的相互摩擦运动将硅片表面疏松的颗粒物等异物冲洗掉，清洗效果明显了得到提高。硅片承载架7的底板71为耐腐蚀且不产生颗粒的石英材料，连接杆72为四氟塑料等材料，耳板73为表面涂有防腐的四氟涂层。气缸驱动气体-压缩空气经两位四通电磁阀1、压空管道2送至气缸3内，驱动气缸活塞杆做往复运动。

进一步地，所述硅片承载架7的底板71上方设有多层硅片载板，硅片载板与底板71两侧设置的连接杆72连接，硅片载板的结构可设计为与底板71结构相同。硅片载板的设置可增加装置的清洗量。硅片承载架7的底板71上还可以设置转动装置用于使硅片清洗篮8在升降过程中同时在水平面内旋转，使硅片清洗无死角。

本实用新型还可以通过设置两个气缸来直接同步驱动硅片承载架7做往复升降运动，即硅片承载架7两侧的两个耳板73分别与两个气缸的活塞杆连接，两个气缸同步运动共同驱动硅片承载架7上下运动。