[实用新型]玻璃退火窑的D区密封装置有效
申请号: | 201520502679.4 | 申请日: | 2015-07-13 |
公开(公告)号: | CN204939266U | 公开(公告)日: | 2016-01-06 |
发明(设计)人: | 杨阳;易星;刘锐;程明 | 申请(专利权)人: | 中国建材国际工程集团有限公司 |
主分类号: | C03B25/00 | 分类号: | C03B25/00 |
代理公司: | 上海硕力知识产权代理事务所 31251 | 代理人: | 王法男 |
地址: | 200061 上海市普*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 玻璃 退火 密封 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及退火窑D区结构的改进,尤其涉及玻璃退火窑的D区密封装置。
背景技术
浮法玻璃退火窑主要任务是创建一个匀热和满足玻璃结构调整需要的均匀温度场,在退火窑各区内保证玻璃带的降温速度,减少玻璃各部分之间的结构差,形成一个受控的冷却过程,理论上我们要求各区退火环境独立,减少区与区之间的空气流通而造成气氛环境的干扰,在各区段内达到玻璃带温降及退火要求。D区在退火窑中起着连接、过渡的作用,窑内即无电加热也无冷却装置,窑体只有一层钢板进行密封,不做保温处理。D区是过渡区,完成C区和Ret区的过渡,但D区内部无密封装置,Ret区的强对流风容易窜入C区,使C区退火环境不够稳定,影响玻璃的退火质量。
实用新型内容
本实用新型旨在提供一种玻璃退火窑的D区密封装置,防止R区的强制对流风造成退火窑C区气流波动较大,影响玻璃质量。
为了达成上述目的,提供了一种玻璃退火窑的D区密封装置,包括上部和下部,所述上部与下部与退火窑辊道形成密封屏障,阻断了R区的强制对流风对C区的影响。
一些实施例中,所述上部包括挡帘,第一挡板和第二挡板。
一些实施例中,所述挡帘为调节的活动挡帘。
一些实施例中,所述第一挡板和所述第二挡板设于所述挡帘的两侧。
一些实施例中,所述挡帘与所述第一挡板和所述挡板之间形成回形密封,使得气流无法窜动。
一些实施例中,所述下部包括软挡板和支架。
一些实施例中,所述软挡板为可活动软挡板的,从而可在线更换。
一些实施例中,所述软挡板设置为,使得石棉板上沿到玻璃下表面的距离为最小,更好的形成密封,而不至于划伤玻璃表面。
根据本实用新型的玻璃退火窑的D区密封装置,这样就与退火窑辊道形成密封屏障,阻断了R区的强制对流风对C区的影响,使得退火前段气流稳定,从而保证了退火窑内部氛围的稳定。
以下结合附图,通过示例说明本实用新型主旨的描述,以清楚本实用新型的其他方面和优点。
附图说明
结合附图,通过下文的详细说明,可更清楚地理解本实用新型的上述及其他特征和优点,其中:
图1为根据本实用新型实施例的玻璃退火窑的D区密封装置的结构示意图。
具体实施方式
参见本实用新型具体实施例的附图,下文将更详细地描述本实用新型。然而,本实用新型可以以许多不同形式实现,并且不应解释为受在此提出之实施例的限制。相反,提出这些实施例是为了达成充分及完整公开,并且使本技术领域的技术人员完全了解本实用新型的范围。
现参考附图详细说明根据本实用新型实施例的玻璃退火窑的D区密封装置。
根据一种玻璃退火窑的D区密封装置,包括上部和下部,所述上部与下部与退火窑辊道形成密封屏障,阻断了R区的强制对流风对C区的影响。所述上部包括挡帘,第一挡板和第二挡板。所述挡帘为调节的活动挡帘。
所述第一挡板和所述第二挡板设于所述挡帘的两侧。所述挡帘与所述第一挡板和所述挡板之间形成回形密封,使得气流无法窜动。
所述下部包括软挡板和支架。所述软挡板为可活动软挡板的,从而可在线更换。所述软挡板设置为,使得石棉板上沿到玻璃下表面的距离为最小,更好的形成密封,而不至于划伤玻璃表面。
先参考图1,详细描述根据本实用新型的实例。
如图1所示,将挡帘1、挡板2、挡板3安装在退火窑D区上部窑体工字钢和H型钢之间,挡帘1的下部距辊子8的上表面垂直距离为50mm(一般玻璃板的厚度为3~15mm),挡帘1和挡板2、挡板3形成了回形密封,防止了气流在上部的流动。此为上半部分的密封装置。
将支架5和支座6安装在退火窑D区支腿上,活动石棉板4插入支架5中,石棉板在支架中可抽出,软挡板距玻璃下表面的距离可以控制在很小的范围之内,从而更好的形成密封,而不至于划伤玻璃表面。此为下半部分密封装置。
此结构使得R区气流无法窜入C区,从而阻断了R区的强制对流风对C区的影响,使得退火窑内部气流更加稳定,从而提高了玻璃的的退火质量。
根据本实用新型的玻璃退火窑的D区密封装置,这样就与退火窑辊道形成密封屏障,阻断了R区的强制对流风对C区的影响,使得退火前段气流稳定,从而保证了退火窑内部氛围的稳定。
以上详细描述了本实用新型的较佳具体实施例。应当理解,本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本实用新型的构思做出诸多修改和变化。凡本技术领域中技术人员依本实用新型的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案,皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。
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