[实用新型]一种能够保持真空度的溅射镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型属于溅射技术领域，具体涉及一种能够保持真空度的溅射镀膜装置。

背景技术

薄膜技术涉及半导体、太阳能、LED、平板显示器、有机材料、信息工程等方方面面，在当前材料领域占有重要地位。因此有效的成膜技术备受关注，如化学气相沉积，脉冲激光沉积、溅射法、电子束沉积、旋转喷涂法等等，其中磁控溅射法具有成膜速率高、均匀性好、成本低、易于大规模生产等优点，在工业上有着广泛的应用。

通常，工业上所用磁控溅射主要是动态沉积，即被镀衬底是在运动传输之中，这样可以形成连续的生产线，用于大规模工业生产。但是现有的溅射镀膜装置的真空腔的真空度很难保持在10ⅹ10^-3以上，而且腔体容易漏气，从而会影响工作效率和生产质量，不能满足现在工业快速发展的需要，因此需要设计出一种能够保持真空度的溅射镀膜装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种能够保持真空度的溅射镀膜装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种能够保持真空度的溅射镀膜装置,包括溅射镀膜装置、真空控制装置、控制器，所述溅射镀膜装置由腔体、镀膜腔室、靶材、传递辊、挡板组件、阴极板、阳极板、磁铁线圈和电线组成，所述镀膜腔室设置在腔体的内部，所述阴极板设置在镀膜腔室的底部，所述传递辊和挡板组件均设置在阴极板的上侧，且挡板组件间隔设置在传递辊之间，所述阳极板设置在腔体的顶部，且设置在镀膜腔室内，所述靶材设置在阳极板的下侧，所磁铁线圈设置在镀膜腔室的两侧，所述电线分别与控制器、阴极板和阳极板电性连接，所述真空控制装置由真空进气控制装置、充气阀、板阀、分子泵、电磁阀、机械泵和粗抽阀组成，所述真空进气控制装置设置在腔体的顶部上，所述充气阀安装在腔体左侧的上部，所述板阀通过管道分别与腔体底部的右侧和分子泵固定连接，所述分子泵通过管道与机械泵固定连接，所述电磁阀设置在分子泵与机械泵之间的管道上，所述机械泵通过管道与粗抽阀固定连接，所述粗抽阀通过管道与腔体的右侧固定连接，所述控制器安装在腔体右侧的上部。

优选的，所述腔体左侧的底部设有工件进口，腔体右侧的底部设有工件出口。

优选的，所述机械泵和分子泵上均设有压力表。

优选的，所述真空进气装置由钢瓶阀、流量计和进气阀组成，所述钢瓶阀、流量计和进气阀从上到下依次安装在通向镀膜腔室的进气管道上。

本实用新型的技术效果和优点：该能够保持真空度的溅射镀膜装置，分子泵是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子，使之获得定向速度，从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种真空泵；控制器能够控制真空控制装置，从而控制腔体的真空度，使之保持在10ⅹ10^-3以上，符合实际要求，因此能够满足实际工业发展的需求，提高产品质量和工作效率；该能够保持真空度的溅射镀膜装置具有操作简单，维护方便、易控制真空度，工作效率高等优点，具有市场推广价值。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图中：1溅射镀膜装置、2腔体、3镀膜腔室、4靶材、5传递辊、6挡板组件、7阴极板、8阳极板、9磁铁线圈、10电线、11真空控制装置、12真空进气控制装置、13充气阀、14板阀、15分子泵、16电磁阀、17机械泵、18粗抽阀、19控制器。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。