[实用新型]一种带涂层的PTC热敏电阻陶瓷烧结匣钵有效

专利信息
申请号: 201520491451.X 申请日: 2015-07-09
公开(公告)号: CN204902598U 公开(公告)日: 2015-12-23
发明(设计)人: 林孝杰 申请(专利权)人: 海宁永力电子陶瓷有限公司
主分类号: F27D5/00 分类号: F27D5/00
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 吴关炳
地址: 314412 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 涂层 ptc 热敏电阻 陶瓷 烧结 匣钵
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于电子陶瓷材料制造技术领域,特别是涉及一种带涂层的PTC热敏电阻陶瓷烧结匣钵。

背景技术

PTC热敏电阻陶瓷作为加热用元器件已经被越来越广泛的利用,特别是空调行业,现年用量可达10亿片以上,且每年以20%以上的增长率持续增长。但是空调行业使用的均为居里温度达240℃以上的高温PTC加热片,该加热片含铅量高,高温烧结过程中产生大量含铅熔融物,极易与烧结匣钵产生化学反应。现阶段行业大多采用刚玉、莫来石混合烧结匣钵和99瓷氧化铝匣钵。刚玉、莫来石混合匣钵极易与含铅熔融物发生化学反应,使PTC陶瓷体内的成分流失或变动,在PTC片边缘形成变性带,对PTC陶瓷的α系数、耐电压等各项性能产生严重影响,甚至导致PTC材料无法半导化。99瓷氧化铝匣钵不会与PTC陶瓷含铅熔融物发生化学反应,但该匣钵应力大,在温度急剧变化是极易破裂,在隧道窑内破裂容易发生堵窑。且成本高为刚玉、莫来石混合匣钵的3倍以上。本发明人曾提出一种PTC热敏电阻陶瓷烧结匣钵,通过减少烧结匣钵与PTC片的接触面积,达到减轻反应程度,符合高温PTC烧结要求的目的。但却无法彻底解决刚玉、莫来石混合匣钵与PTC片接触发生化学反应从而影响PTC热敏电阻陶瓷片质量的问题。

发明内容

本实用新型针对上述现有技术的不足,提出了一种带涂层的PTC热敏电阻陶瓷烧结匣钵,彻底解决刚玉、莫来石混合匣钵与PTC片接触发生化学反应从而影响PTC热敏电阻陶瓷片质量的问题。

本实用新型解决技术问题所采取的技术方案是,一种带涂层的PTC热敏电阻陶瓷烧结匣钵,所述匣钵由底部和侧壁组成,所述匣钵底部下侧设有底脚,所述匣钵侧壁上部均设有凹口,所述匣钵侧壁的内壁上均设有凸筋,所述匣钵的内壁上即内表面设有涂层。

在本实用新型中,涂层设置于烧结匣钵的内壁上,包括匣钵侧壁的内壁和匣钵底部的上侧,即涂层设置在烧结匣钵的内表面。

所述涂层的配方以质量百分计为:Pb3O430%、BaCO324%、TiO228%、ZrO14%、CaCO32.3%、SiO21.7%。

所述涂层是通过烧渗工艺设置到烧结匣钵的内壁上的。

具体的工艺如下:先按配方比例称取Pb3O4、BaCO3、TiO2、ZrO和CaCO3配制成基料,添加与基料总量为1:1质量比的去离子水,放入球磨桶球磨40小时,料球比为1:2,制备成浆料。将浆料烘干后放入匣钵进入隧道窑合成,升温速率为200℃/小时,升温至1000℃后保温8小时,降温速率为150℃/小时。待基料降温至常温后进行二次配料。二次配料时按比例加入基料和SiO2,再加入与基料总量为1:0.7质量比的去离子水,放入球磨桶球磨22小时,料球比为1:2。当球磨到20小时时暂停,加入8%(w/w)浓度为10%(w/w)的PVA溶液后再球磨2小时,制备成涂料。然后将涂料用油漆刷均匀地涂抹在新的烧结匣钵内壁,放入隧道窑进行烧渗,升温速率为250℃/小时,升温至1250℃后保温1小时,降温速率为250℃/小时;降温至常温后取出烧结匣钵再涂刷一次该涂料,烧渗工艺同前。进行两次烧渗后该烧结匣钵内表面形成含铅和锆的氧化层,可以阻止PTC片与刚玉莫来石混合匣钵发生化学反应。

本实用新型通过在匣钵内壁上设置涂层,装载PTC热敏电阻陶瓷片时,涂层隔断了PTC热敏电阻陶瓷片与刚玉莫来石混合匣钵的接触,从而阻止了PTC热敏电阻陶瓷片与刚玉莫来石混合匣钵的化学反应,进而确保PTC热敏电阻陶瓷片的质量。

附图说明

图1本实用新型一种具体实施方式结构示意图。

图2为图1所示本实用新型一种具体实施方式的俯视图。

下面结合附图对本实用新型做进一步说明。

具体实施方式

实施例1:

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