[实用新型]真空灭弧室及其触头组件和触头组件用电流线圈有效

专利信息
申请号: 201520487111.X 申请日: 2015-07-08
公开(公告)号: CN204792599U 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 王晓琴;张雪敏;李文艺;施大成;李敏;吴军辉;关琦 申请(专利权)人: 天津平高智能电气有限公司
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 代理人: 贾东东
地址: 300304 天津市东*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 真空 灭弧室 及其 组件 用电 流线
【权利要求书】:

1.一种触头组件用电流线圈,包括绕圆周方向延伸且并联布置的两分线圈,各分线圈均包括在上下方向上错开分布且串联导电连接的用于与触头组件的导电杆导电连接的上线圈段和用于与触头组件的触头片导电连接的下线圈段,两个下线圈段为关于电流线圈的中心线对称布置的两个二分之一匝线圈段,其特征在于:所述的两分线圈的两个上线圈段为关于所述电流线圈的中心线对称布置的两个四分之一匝线圈段,所述两分线圈均为由四分之一匝线圈段加上二分之一匝线圈段所形成的四分之三匝线圈段。

2.根据权利要求1所述的触头组件用电流线圈,其特征在于:所述的两分线圈的两个上线圈段的相对周向两端之间分别设有上周向间隙,两分线圈的两个下线圈段的相对周向两端之间分别设有下周向间隙,每个分线圈的上、下线圈段之间的过渡连接段均倾斜延伸,各过渡连接段的朝向上周向间隙的上侧面为上倾斜平面、朝向下周向间隙的下侧面为下倾斜平面,各分线圈的下线圈段的朝向下周向间隙的端部侧面为端部倾斜平面。

3.根据权利要求1或2所述的触头组件用电流线圈,其特征在于:所述的电流线圈具有用于与触头组件的导电杆导电连接的导电环,在导电环和两分线圈的两上线圈段之间分别设有沿电流线圈径向延伸的导电连接臂,两分线圈的两上线圈段通过相应的导电连接臂及导电环与所述触头组件的导电杆导电连接。

4.一种触头组件,包括沿上下方向依次布置的导电杆、电流线圈及触头片,电流线圈包括绕圆周方向延伸且并联布置的两分线圈,各分线圈均包括在上下方向上错开分布且串联导电连接的与所述导电杆导电连接的上线圈段和与所述触头片导电连接的下线圈段,两个下线圈段为关于电流线圈的中心线对称布置的两个二分之一匝线圈段,其特征在于:所述的两分线圈的两个上线圈段为关于所述电流线圈的中心线对称布置的两个四分之一匝线圈段,所述两分线圈均为由四分之一匝线圈段加上二分之一匝线圈段所形成的四分之三匝线圈段。

5.根据权利要求4所述的触头组件,其特征在于:所述的两分线圈的两个上线圈段的相对周向两端之间分别设有上周向间隙,两分线圈的两个下线圈段的相对周向两端之间分别设有下周向间隙,每个分线圈的上、下线圈段之间的过渡连接段均倾斜延伸,各过渡连接段的朝向上周向间隙的上侧面为上倾斜平面、朝向下周向间隙的下侧面为下倾斜平面,各分线圈的下线圈段的朝向下周向间隙的端部侧面为端部倾斜平面。

6.根据权利要求4所述的触头组件,其特征在于:所述的电流线圈具有与所述导电杆导电连接的导电环,在导电环和两分线圈的两上线圈段之间分别设有沿电流线圈径向延伸的导电连接臂,两分线圈的两上线圈段通过相应的导电连接臂及导电环与所述触头组件的导电杆导电连接。

7.根据权利要求4或5或6所述的触头组件,其特征在于:所述的电流线圈外包络有外屏蔽罩,外屏蔽罩的上部与导电杆导电封接。

8.根据权利要求4或5或6所述的触头组件,其特征在于:所述的电流线圈和触头片之间还设有导流排,导流排与两分线圈的两个下线圈段导电连接,导流排与触头片封接。

9.一种真空灭弧室,包括相对间隔布置的两触头组件,至少一个触头组件为线圈式触头组件,线圈式触头组件包括沿上下方向依次布置的导电杆、电流线圈及触头片,电流线圈包括绕圆周方向延伸且并联布置的两分线圈,各分线圈均包括在上下方向上错开分布且串联导电连接的与所述导电杆导电连接的上线圈段和与所述触头片导电连接的下线圈段,两个下线圈段为关于电流线圈的中心线对称布置的两个二分之一匝线圈段,其特征在于:所述的两分线圈的两个上线圈段为关于所述电流线圈的中心线对称布置的两个四分之一匝线圈段,所述两分线圈均为由四分之一匝线圈段加上二分之一匝线圈段所形成的四分之三匝线圈段。

10.根据权利要求9所述的真空灭弧室,其特征在于:所述的电流线圈外包络有外屏蔽罩,外屏蔽罩的上部与导电杆导电封接。

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