[实用新型]一种二极管腐蚀清洗机有效
| 申请号： | 201520457217.5 | 申请日： | 2015-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN204885104U | 公开（公告）日： | 2015-12-16 |
| 发明（设计）人： | 徐柏林;江玉华;翁平;李小娟 | 申请（专利权）人： | 南通康比电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人： | 滑春生 |
| 地址： | 226500 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 二极管 腐蚀 清洗 | ||
1.一种二极管腐蚀清洗机，其特征在于：包括机架以及放在机架上的工艺工位；所述工艺工位包括沿机架长轴方向自前往后依次设置的芯片腐蚀工位、芯片钝化工位、杂质清洗工位、热水冲洗浸泡工位以及超声清洗工位，二极管放置在酸洗板上并依次经过芯片腐蚀工位、芯片钝化工位、杂质清洗工位、热水冲洗浸泡工位以及超声清洗工位完成清洗。
2.根据权利要求1所述的二极管腐蚀清洗机，其特征在于：所述芯片腐蚀工位包括一水槽A，所述酸洗板浸渍在水槽A内，其长轴方向的两侧支撑在水槽A长轴方向两侧侧壁A上。
3.根据权利要求1所述的二极管腐蚀清洗机，其特征在于：所述杂质清洗工位包括一水槽B以及水槽B上方的冲水管，所述酸洗板倾斜支撑在水槽B长轴方向两侧的侧壁B上，所述冲水管上开有若干正对水槽B内的冲水孔。
4.根据权利要求1所述的二极管腐蚀清洗机，其特征在于：所述热水冲洗浸泡工位包括一支架以及支架上方的热水冲淋管，所述支架呈U型，由一底板以及底板长轴方向两侧上端面的支撑脚组成；所述酸洗板长轴方向的两侧支撑在支架两侧的支撑脚上，所述热水冲淋管上开有若干正对酸洗板上端面的冲淋孔。
5.根据权利要求4所述的二极管腐蚀清洗机，其特征在于：所述热水冲淋管的内壁呈螺旋型结构。
6.根据权利要求1所述的二极管腐蚀清洗机，其特征在于：所述酸洗板为一上表面均匀分布有若干引线孔的石墨板体，所述二极管的引脚放置在对应的引线孔内。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
