[实用新型]一种钨合金环的一模两腔压制模具有效

专利信息
申请号: 201520415069.0 申请日: 2015-06-16
公开(公告)号: CN204770652U 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 陈武利 申请(专利权)人: 珠海美利信新材料技术有限公司
主分类号: B22F3/03 分类号: B22F3/03;B22F5/10
代理公司: 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙) 44286 代理人: 邹常友
地址: 519000 广东省珠海市国家高新*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 合金 一模两腔 压制 模具
【说明书】:

【技术领域】

实用新型主要涉及一种钨合金环的一模两腔压制模具。

【背景技术】

粉末冶金钨基环类压制模主要分上冲、下冲、阴模和模芯四大主要结构,传统的压模是一模一腔,最大的不足在于:①生产效率低;②填料采用人工方式,先称重量,再人工布料。因此提出一种具有自动化及高效率的压制模具就显得很有必要了。

【实用新型内容】

为解决效率低下,传统压模需要人工填料等问题,本实用新型提出一种钨合金环的一模两腔压制模具。

本钨合金环的一模两腔压制模具采用以下的技术方案:

一种钨合金环的压制模具,它包括上模板、下模板与中定板;

所述上模板具有第一上冲与第二上冲;所述第一上冲与第二上冲分别固定连接在所述上模板的下表面;

所述下模板具有固定板、第一支撑杆、第二支撑杆、第一下冲、第二下冲;所述第一支撑杆与所述第二支撑杆分别安装在所述下模板上表面的左侧与右侧;所述固定板安装在所述下模板的上表面,且位于所述第一支撑杆与所述第二支撑杆之间;所述第一下冲与所述第二下冲安装在所述固定板的上表面;

所述中定板具有第一阴模、第二阴模、第一模芯与第二模芯;所述中定板设有空腔,所述第一阴模与第二阴模安装在所述空腔内,所述第一模芯与所述第二模芯分别安装在所述第一阴模与所述第二阴模内。

作为本实用新型进一步方案,所述钨合金环的一模两腔压制模还包括送料仓与送料板。

作为本实用新型进一步方案,所述第一上冲和所述第二上冲的位置分别与所述第一下冲和所述第二下冲的位置相对应。

作为本实用新型进一步方案,所述第一上冲和所述第二上冲的位置分别与所述第一阴模和所述第二阴模的位置相对应。

作为本实用新型进一步方案,所述送料仓安装在所述送料板的上方。

作为本实用新型进一步方案,所述送料板安装在与所述中定板的上表面的同一水平面上。

本实用新型同背景技术相比所产生的有益效果:

本实用新型所提出的钨合金环的一模两腔压制模是涉及钨基环类产品的压制模具,其具有结构简单,采用一模两腔,效率高,产品尺寸稳定、质量可靠等优点,同时解决了一般填料靠人工填料的缺点,极大提高了生产效率,节约成本。

【附图说明】

图1为本实用提供较佳实施例的钨合金环的一模两腔压制模具示意图;

图2为本实用提供较佳实施例的钨合金环的一模两腔压制模具局部示意图。

【具体实施方式】

下面详细描述本实用新型的实施例,所述的实施例示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。

在本实用新型的描述中,需要说明的是,对于方位词,如有术语“中心”,“横向(X)”、“纵向(Y)”、“竖向(Z)”“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于叙述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作,不能理解为限制本实用新型的具体保护范围。

此外,如有术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”特征可以明示或者隐含包括一个或者多个该特征,在本实用新型描述中,“数个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中,除另有明确规定和限定,如有术语“组装”、“相连”、“连接”术语应作广义去理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;也可以是机械连接;可以是直接相连,也可以是通过中间媒介相连,可以是两个元件内部相连通。对于本领域普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述的术语在本实用新型中的具体含义。

在实用新型中,除非另有规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一特征和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“之下”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅是表示第一特征水平高度高于第二特征的高度。第一特征在第二特征“之上”、“之下”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度低于第二特征。

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