[实用新型]一种转轴定位机构及应用该转轴定位机构的华夫炉

权利要求书

1.一种转轴定位机构，其特征在于：包括转轴、座体、定位件和设置在座体上的定位装置，所述座体上设有与所述转轴配合的座体轴孔，所述定位件安装在所述转轴上；所述定位件的外侧设有定位凸起，所述定位凸起上设有定位孔；所述定位装置设有两个以上并布置在定位件的外侧，所述定位装置包括两个定位珠，所述两个定位珠的弹性抵顶端相对设置，所述两个定位珠分布在定位凸起沿转轴轴向的两侧，所述两个定位珠设在定位孔随转轴旋转形成的圆形轨迹上，两个定位珠的弹性抵顶端的相对距离小于所述定位凸起沿定位孔轴向的厚度。

2.根据权利要求1所述的转轴定位机构，其特征在于：所述定位装置的两个定位珠的弹性抵顶端相贴触。

3.根据权利要求1或2所述的转轴定位机构，其特征在于：所述座体的外侧设有定位凸起活动槽，所述凸起活动槽上设有第一定位珠安装孔，所述定位装置的一个定位珠安装在第一定位珠安装孔上；所述座体的外侧设有座盖，所述座盖上设有第二定位珠安装孔，所述定位装置的另一个定位珠安装在第二定位珠安装孔上。

4.根据权利要求3所述的转轴定位机构，其特征在于：所述凸起活动槽由设于座体侧部的四个对称设置的连接凸起之间的空间形成，所述座盖安装在所述连接凸起上，所述第一定位珠安装孔关于座体轴孔水平对称设置有两个，所述座盖上对应地设有两个第二定位珠安装孔，所述定位装置设有两个，每个定位装置的两个定位顶珠对应地安装在相配对的第一定位珠安装孔和第二定位珠安装孔上。

5.根据权利要求4所述的转轴定位机构，其特征在于：所述第一定位珠安装孔位于座体轴孔一侧的两个连接凸起之间，并且位于上侧的连接凸起阻挡定位凸起向上旋转。

6.根据权利要求1所述的转轴定位机构，其特征在于：所述定位件为定位套，所述定位套中部设有与所述转轴套接的套孔，所述定位凸起为设于定位套外侧的凸耳。

7.根据权利要求6所述的转轴定位机构，其特征在于：所述套孔内壁上设有连接键，所述转轴上设有与所述连接键配合的键槽。

8.根据权利要求1所述的转轴定位机构，其特征在于：所述转轴与座体轴孔通过轴承或轴套配合。

9.根据权利要求1所述的转轴定位机构，其特征在于：所述转轴的外端设有转轴连接座。

10.一种应用权利要求1所述转轴定位机构的华夫炉，其特征在于：包括机座和盘体，所述盘体包括叠置的第一盘体和第二盘体；所述盘体的一侧设有支承轴，所述盘体的另一侧设有盘体连接座，所述支承轴的末端设有旋转手柄，所述转轴定位机构的转轴的外端与所述盘体连接座连接，所述机座设有支承所述支承轴的第一支承部以及安装所述转轴定位机构的第二支承部。