[实用新型]一种用于处理基板的罩框和基板支撑组件

权利要求书

1.一种用于处理基板的罩框，其特征在于，所述罩框包括：

连续的基部，所述基部具有形成在基部中的连续的突出部分，所述突出部分从所述基部的内表面向外延伸，所述突出部分包括：

第一表面，所述第一表面从所述基部的所述内表面而向外延伸小于所述基部的整个最大宽度的距离；以及

第二表面，所述第二表面与所述第一表面相邻且位于所述第一表面外部，其中所述第二表面形成第一周缘；以及

连续的遮罩，所述遮罩具有形成第二周缘的内表面，其中所述遮罩安置在所述突出部分的上方，并且其中所述遮罩具有小于约10mm的厚度；

其中所述遮罩包含介电常数大于约3.6的玻璃或陶瓷材料；以及

其中所述第二周缘小于所述第一周缘。

2.根据权利要求1所述的罩框，其特征在于，所述遮罩和所述基部是共轴的。

3.根据权利要求1所述的罩框，其特征在于，所述基部和所述遮罩是直接接触的。

4.根据权利要求1所述的罩框，其特征在于，所述突出部分的所述第二表面垂直于所述突出部分的所述第一表面，并且其中所述遮罩的外表面与所述突出部分的所述第二表面连续地接触。

5.根据权利要求1所述的罩框，其特征在于，所述罩框还包括紧固件，所述紧固件将所述基部耦接至所述遮罩。

6.根据权利要求1所述的罩框，其特征在于，所述罩框还包括一或多个定位销，所述一或多个定位销从所述基部与所述遮罩相对的表面突出。

7.根据权利要求1所述的罩框，其特征在于，所述罩框还包括气体限制器，所述气体限制器安置在所述遮罩和所述基部的上方。

8.根据权利要求1所述的罩框，其特征在于，所述遮罩具有在约1mm与约5mm之间的厚度。

9.一种基板支撑组件，其特征在于，所述基板支撑组件包括：

基板支撑件，所述基板支撑件包括基板支撑表面，所述基板支撑表面包括：

第一突出部分，所述第一突出部分包括：

第一表面，所述第一表面平行于所述基板支撑表面；以及

第二表面，所述第二表面垂直于所述第一表面；以及

第二突出部分，所述第二突出部分从所述第一突出部分的所述第二表面向内延伸，所述第二突出部分包括：

第三表面，所述第三表面平行于所述基板支撑表面；以及

第四表面，所述第四表面垂直于所述第三表面；

连续的基部，所述基部具有内表面，所述基部形成第一周缘，并且所述基部安置在所述第一表面的上方；

连续的第三突出部分，所述第三突出部分形成在所述基部的所述内表面中，所述第三突出部分包括：

第五表面，所述第五表面从所述基部的所述内表面而向外延伸小于所述基部的整个最大宽度的距离；以及

第六表面，所述第六表面与所述第五表面相邻且位于所述第五表面外部；以及

连续的遮罩，所述遮罩具有形成第二周缘的内表面，其中所述遮罩安置在所述第三突出部分的上方，并且其中所述遮罩具有小于约7mm的厚度；

其中所述基板支撑表面从所述第四表面向内延伸。

10.根据权利要求9所述的基板支撑组件，其特征在于，所述基部和所述遮罩包含陶瓷材料，并且其中所述第二周缘小于所述第一周缘。

11.根据权利要求9所述的基板支撑组件，其特征在于，所述基板支撑组件还包括气体限制器，所述气体限制器安置在所述遮罩和所述基部的上方。

12.根据权利要求9所述的基板支撑组件，其特征在于，所述基部和所述遮罩是直接接触的。

13.根据权利要求9所述的基板支撑组件，其特征在于，所述遮罩和所述基部是共轴的。

14.根据权利要求9所述的基板支撑组件，其特征在于，所述基板支撑组件还包括气体限制器，所述气体限制器安置在所述遮罩和所述基部的上方；

其中所述基部和所述遮罩包含陶瓷材料，并且其中所述第二周缘小于所述第一周缘；

其中所述基部与所述遮罩是直接接触的；以及

其中所述遮罩和所述基部是共轴的。

15.根据权利要求9所述的基板支撑组件，其特征在于，所述遮罩具有在约1mm与约5mm之间的厚度。