[实用新型]一种考夫曼离子源

说明书

技术领域

本发明涉及一种离子源，特别涉及一种考夫曼离子源。

背景技术

离子束薄膜沉积和离子束材料改性技术是材料科学的一个重要分支，离子束技术的研究和推广取得了巨大的成就。目前，离子源的种类很多，Kaufman(考夫曼)离子源是使用较为广泛的对薄膜进行离子束轰击的装置，该装置的基本工作原理为：首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，然后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来，这种离子源产生的离子方向性强，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。

常规的考夫曼离子源如图1所示，电子由阴极灯丝发射，发射的电子由阳极板面吸引，电子空间分布为点发射状，电子空间密度不均匀造成离子流不稳定。

实用新型内容

本实用新型解决上述离子流不稳定的技术缺陷，设计一种稳定输出的考夫曼离子源。

一种考夫曼离子源，包括包括进气孔、阴极和阳极，其特征在于：阴极平行于阳极。

所述装置的阴极捆绑在平行于阳极的绝缘柱表面。

本实用新型有益效果：所述柱状阴极的电场垂直于柱状阴极，产生均匀的空间电场，因此，均匀的空间电场与气流混合，产生均匀的离子流。

附图说明

图1为考夫曼离子源常用结构

图2为考夫曼离子源改进结构

具体实施方式

如图2所示，惰性气体由考夫曼离子源的进气孔1进入，与阴极2阳极3的电子束混合反应，阴极2捆绑在平行于阳极的绝缘柱4表面。所述柱状阴极2的电场垂直于柱状阴极，产生均匀的空间电场，因此，均匀的空间电场与气流混合，产生均匀的离子流。