[实用新型]一种新型表面等离激元共振生物传感器有效

专利信息
申请号: 201520394515.4 申请日: 2015-06-09
公开(公告)号: CN205120588U 公开(公告)日: 2016-03-30
发明(设计)人: 石建平;查射曦;米佳佳;赵小童;黄万霞 申请(专利权)人: 安徽师范大学
主分类号: G01N21/552 分类号: G01N21/552
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 代理人: 马荣
地址: 241002 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 表面 离激元 共振 生物 传感器
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种新型表面等离激元共振生物传感器,属于纳米技术、生物技术科学领域。

背景技术

近年来,对金属表面等离激元(SPP)的研究取得了长足的进展。SPP是指由外部电磁场(如光波)诱导金属微纳结构表面自由电子的集体振荡,它具有一个突出特点就是可以实现表面等离激元共振(SurfacePlasmonResonance,SPR),共振时局部电场可以增大上千倍。因此可以极大的提高电场与物质的作用效果,在生物传感领域应用十分广泛,已成为人们分析物质浓度的强有力的技术手段。本实用新型提出了一种新型的SPR传感技术,采用纳米球外覆金属薄膜作为传感单元,并用石墨烯封装,具有灵敏性高和适用范围广的特点。

发明内容

本实用新型需要解决的技术问题是:克服现有技术的不足,提供一种灵敏度高、应用范围广泛、价格经济的一种新型表面等离激元共振生物传感器。

本实用新型的技术解决方案是:

一种新型表面等离激元共振生物传感器,由棱镜(1)、纳米颗粒阵列(2)、二氧化硅薄膜(3)、石墨烯(4)以及样品池(5)组成,纳米颗粒阵列(2)位于棱镜(1)的下表面,二氧化硅薄膜(3)覆盖在纳米颗粒阵列(2)上,石墨烯(4)覆盖在二氧化硅薄膜(3)上,棱镜(1)为高折射率材料,纳米颗粒阵列(2)由聚苯乙烯纳米球(6)外覆金属薄膜(7)组成。

所述的棱镜(1)为折射率大于二氧化硅薄膜(3)的材料,且相对于入射光为低损耗,优选为重火石玻璃或硒基氧硫玻璃或硅。

所述聚苯乙烯纳米球(6)直径为50nm~80nm,单层紧邻排布。

所述金属薄膜(7)材料为金或银或铝,厚度为10nm~80nm。

所述二氧化硅薄膜(3)厚度介于10nm与0.25倍入射波长之间。

所述石墨烯(4)层数为1~8层。

本实用新型与现有技术相比具有如下优点:

1.超高的灵敏度。本实用新型设计的SPR生物传感器与传统的生物传感器相比灵敏度提高将近1个量级。

2.待测物质检测范围种类广。本生物传感器克服待测样品物态受限的缺点,既能进行液态检测又可进行气态检测,应用范围广。

3.使用寿命长。石墨烯具有很强的抗氧化能力,可保护金属层不被氧化和腐蚀,增长传感器的使用寿命。

4.操作波长宽。本实用新型选用的棱镜材料具有较宽的操作波长,可以在不同波段对样品进行检测。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图2表面等离激元共振峰;

图3测试样品的共振峰移动。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。

如图1所示,本实用新型由棱镜(1)、纳米颗粒阵列(2)、二氧化硅薄膜(3)、石墨烯(4)以及样品池(5)组成,纳米颗粒阵列(2)位于棱镜(1)的下表面,二氧化硅薄膜(3)覆盖在纳米颗粒阵列(2)上,石墨烯(4)覆盖在二氧化硅薄膜(3)上。当棱镜(1)为重火石玻璃,金属薄膜(7)为银,厚度h为10nm,二氧化硅薄膜(3)厚度为25nm,石墨烯(4)厚度为0.34nm时,为入射波长700nm所用的表面等离激元共振传感器。

当用TM偏振的700nm激光光源入射时,经过棱镜(1)折射后到达纳米颗粒阵列(2)。当入射角度大于全反射临界角后,在棱镜(1)和纳米颗粒阵列(2)的界面处产生消逝波,该消逝波将激发表面等离激元共振模式。当覆盖于聚苯乙烯纳米球(6)上的金属薄膜(7)厚度h为10nm~80nm时,可以显著增强这种共振模式,其作用类似于纳米球壳。共振发生时,局部电场增大,入射光被吸收,使反射光能量急剧下降,在反射光谱上出现表面等离激元共振峰,如图2所示。该共振峰对样品折射率的改变十分敏感,当被石墨烯(4)吸附的样品折射率改变时,共振峰位置将发生改变,实现对样品的检测,如图3所示。石墨烯(4)介电常数具有较大的虚部,在可见光波段比Ag要大一个数量级。这会导致表面等离激元共振时损耗增大,引起共振峰变宽,使得传感器的准确度降低。在金属薄膜(7)与石墨烯(4)之间添加二氧化硅薄膜(3)调节膜系的等效介电常数,厚度介于10nm与0.25倍入射波长之间。

本实用新型的具体制作步骤如下:

a.将聚苯乙烯纳米球分散液均匀涂覆在棱镜下表面,形成紧邻的单层纳米球阵列;b.真空环境下采用磁控溅射在棱镜下表面的纳米球阵列上镀金属薄膜,厚度为10nm~80nm;c.采用液相沉积技术法(LPD)在金属银或铝膜上生长二氧化硅薄膜,膜厚为10nm~0.25倍入射波长;d.采用化学气相沉积法(CVD)生长石墨烯,厚度为0.34nm~2.72nm;e.清洗、烘干,完成制作。

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