[实用新型]小型棱镜摄谱仪的新型入射狭缝装置有效

专利信息
申请号: 201520390712.9 申请日: 2015-06-08
公开(公告)号: CN204694349U 公开(公告)日: 2015-10-07
发明(设计)人: 陈乔悦;丛令梅;宿刚 申请(专利权)人: 浙江海洋学院
主分类号: G01J3/04 分类号: G01J3/04
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 顾王建
地址: 316004 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 小型 棱镜 摄谱仪 新型 入射 狭缝 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于光谱仪器技术领域,特指一种小型棱镜摄谱仪的新型入射狭缝装置。

背景技术

光谱拍摄和光谱测量实验是近代物理实验中的基本实验。棱镜摄谱仪的构造由狭缝、平行光管、棱镜、光谱接收等部分组成,通过核心部件中的恒偏棱镜的分光能力,得到色散的光谱线。

发明内容

本实用新型提供一种操作方便、配件数量少、有利于更换和维修的小型棱镜摄谱仪的新型入射狭缝装置。

为达到上述发明目的本实用新型所采用的技术方案是:

一种小型棱镜摄谱仪的新型入射狭缝装置,包括有狭缝基座,在狭缝基座上居中设置有透光孔及放置狭缝刀片的凹槽,在凹槽的两端分别设置有螺旋测微器安装孔,狭缝刀片设置在凹槽内,且两狭缝刀片相邻的一端上、下交错设置,在两狭缝刀片上分别设置有定位螺钉,在凹槽一侧的狭缝基座上固设有扭簧,扭簧的两端分别靠设在定位螺钉上,使两狭缝刀片在没有外力作用下时处于最大的张开状态,在两狭缝刀片上方分别设置有固定件,固定件固设在狭缝基座上以确保狭缝刀片在凹槽内移动,在两螺旋测微器安装孔内分别设置有螺旋测微器,两螺旋测微器的一端分别顶紧在两狭缝刀片上,通过调节螺旋测微器,施以狭缝刀片压力,以调节狭缝的闭、合。

在上述技术方案中,所述扭簧套装在螺钉上,螺钉固定在基座上。

在上述技术方案中,所述螺钉位于凹槽长度的中点所在的延长线上。

在上述技术方案中,所述基座上设置有用于固定基座的螺纹孔。

在上述技术方案中,所述固定件的一端设置在狭缝刀片上方、另一端固定在狭缝基座上。

本实用新型的有益效果是:

1、本实用新型在小型棱镜摄谱仪拍摄光谱实验中,通过调节狭缝的宽度,控制谱线成像的清晰度和谱线线条的宽度,通过调节狭缝的位置来调平光路。

2、本实用新型具有组件少,易于拆卸、维修等特点;同时,狭缝刀片为上下交错结构,避免狭缝刀片由于错误操作导致的挤压而损坏。

附图说明

图1是本实用新型的爆炸示意图之一。

图2是本实用新型的爆炸示意图之二。

图3是本实用新型的爆炸示意图的仰视图。

图4是本实用新型的爆炸示意图的俯视图。

其中,1、狭缝基座,2、透光孔,3、狭缝刀片,4、凹槽,5、螺旋测微器安装孔,6、定位螺钉,7、扭簧,8、固定件,9、螺旋测微器,10、螺钉,11、螺纹孔。

具体实施方式

下面通过具体实施例对本实用新型作进一步的描述,参见图1—4:

一种小型棱镜摄谱仪的新型入射狭缝装置,包括有狭缝基座1,狭缝基座1的横截面呈圆形,在狭缝基座1上居中设置有透光孔2及放置狭缝刀片3的凹槽4。其中,透光孔2是正方形孔;凹槽4为长方形凹槽。透光孔2居中设置在凹槽4上。在凹槽4的两端分别设置有螺旋测微器安装孔5,狭缝刀片3设置在凹槽4内,且两狭缝刀片3相邻的一端上、下交错设置。具体是在两狭缝刀片3的相邻端分别设置有缺口,其中一缺口位于上方、另一缺口位于下方。在两狭缝刀片3上分别设置有定位螺钉6,在凹槽4一侧的狭缝基座1上固设有扭簧7,扭簧7的两端分别靠设在定位螺钉6上,使两狭缝刀片3在没有外力作用下时处于最大的张开状态,在两狭缝刀片3上方分别设置有固定件8,固定件8固设在狭缝基座1上以确保狭缝刀片3在凹槽4内移动,在两螺旋测微器安装孔5内分别设置有螺旋测微器9,两螺旋测微器9的一端分别顶紧在两狭缝刀片3上,通过调节螺旋测微器9,施以狭缝刀片3压力,以调节狭缝的闭、合。

在上述技术方案中,所述扭簧7套装在螺钉10上,螺钉固定在狭缝基座1上。当然,扭簧7也可以套装在螺杆上,螺杆螺接在狭缝基座1上,在扭簧7上方的螺杆上螺接螺母对扭簧7进行定位。

在上述技术方案中,所述螺钉10位于凹槽4长度的中点所在的延长线上。

在上述技术方案中,所述狭缝基座1上设置有用于固定基座的螺纹孔11。

在上述技术方案中,所述固定件8的一端设置在狭缝刀片3上方、另一端固定在狭缝基座1上。

本实用新型的工作原理是:测量时,转动螺旋测微器9,即可调节狭缝宽度,并进行读数。由于狭缝刀片3为上下交错结构,可以调节狭缝宽度为足够小,而不会因为操作失误,使狭缝刀片挤压而损坏。

以上详细描述了本实用新型的较佳具体实施例。应当理解,本领域的普通技术人员无需创造性劳动就可以根据本实用新型的构思作出诸多修改和变化。因此,凡本技术领域中技术人员依本实用新型的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实验可以得到的技术方案,皆应落入本实用新型的保护范围内。

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