[实用新型]一种双重防水结构和使用该结构的手机有效

专利信息
申请号: 201520370226.0 申请日: 2015-06-02
公开(公告)号: CN204652467U 公开(公告)日: 2015-09-16
发明(设计)人: 陈思勉 申请(专利权)人: 深圳市新角度科技发展有限公司
主分类号: H04M1/02 分类号: H04M1/02
代理公司: 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 代理人: 胡朝阳;孙洁敏
地址: 518000 广东省深圳市龙岗*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 双重 防水 结构 使用 手机
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及电子产品的壳体防水结构技术领域,具体涉及一种双重防水结构和使用该结构的手机。

背景技术

随着科技的进步,电子产品在日常生活中随处可见,电子产品一般包含集成电路、晶体管、电子管等电子元器件,这些电气元器件的运行状态与工作环境是否潮湿有很大的关系。为了方便电子产品的携带,通常电子产品的壳体上会设计防水结构,以保证壳体内的干燥环境。现有技术中的防水结构是在上壳和下壳的结合面设置防水垫,防水垫采用软胶材料制作,上、下壳固定后,防水垫被压紧在两者之间,从而实现壳体的防水,这种防水结构比较单薄,水分易从水平方向渐渐渗入壳体内,防水效果较差。

实用新型内容

为解决上述技术问题,本实用新型提出一种双重防水结构和使用该结构的手机,该双重防水结构在上壳和下壳的水平结合面设有第一重防水处理,在上壳和下壳的竖直结合面设有第二重防水处理,防水效果稳定可靠。

本实用新型采用的技术方案是,设计一种双重防水结构,包括:由上壳和下壳固定连接构成的壳体,下壳四周向上折弯形成下侧板,上壳四周向下折弯形成上侧板,上侧板的底面与下侧板的顶面贴合,上侧板的底面设有一圈向内凹陷的第一密封槽,第一密封槽内设有第一密封圈。

下侧板的顶面内圈设有垂直向上伸出的限位板,上侧板的内侧面恰好可套于限位板的外侧面,限位板的外侧面设有一圈向内凹陷的第二密封槽,第二密封槽内设有第二密封圈。

第一密封槽的深度小于第一密封圈的直径,第二密封槽的深度小于第二密封圈的直径。

较优的,上壳内底面还设有一圈向下伸出的挡板,挡板外侧面恰好套于限位板的内侧面。

本实用新型还提出一种使用上述双重防水结构的手机,包括:壳体,设于壳体内的电池、主板和显示屏,壳体由上壳和下壳固定连接构成。

本实用新型在上壳和下壳的水平结合面设有第一密封圈,在上壳和下壳的竖直结合面设有第二密封圈,即便水分从水平方向渗入上、下壳之间,也可以在第二密封圈的作用下被有效阻挡在下侧板外,使壳体在多方向上达到有效防水。

附图说明

下面结合实施例和附图对本实用新型进行详细说明,其中:

图1是本实用新型双重防水结构的剖面图;

图2是本实用新型手机的整机拆分示意图。

具体实施方式

如图1所示,本实用新型提出的双重防水结构,包括:由上壳1和下壳2固定连接构成的壳体,下壳2四周向上折弯形成下侧板21,上壳1四周向下折弯形成上侧板11,下侧板21的顶面和上侧板11的底面均为平面,上侧板11的底面设有一圈向内凹陷的第一密封槽,第一密封槽内设有第一密封圈3,第一密封槽的深度小于第一密封圈3的直径。上壳1和下壳2固定安装时,上侧板11的底面与下侧板21的顶面贴合,第一密封圈3产生变形密封,达到在水平方向上第一重防水处理的效果。

下侧板21的顶面内圈设有垂直向上伸出的限位板22,上侧板11的内侧面恰好可套于限位板22的外侧面,限位板22的外侧面设有一圈向内凹陷的第二密封槽,第二密封槽内设有第二密封圈4,第二密封槽的深度小于第二密封圈4的直径。上壳1和下壳2固定安装时,第二密封圈4产生变形密封,达到在竖直方向上第二重防水处理的效果。其中,第一密封圈3为硅胶圈,第二密封圈4为TPU软胶材料,第二密封圈4一体化成型设于第二密封槽内。

较优的,上壳1内底面还设有一圈向下伸出的挡板12,挡板12外侧面恰好套于限位板22的内侧面,使得下侧板21插于上侧板11与挡板12之间,挡板12不仅能加固上壳1和下壳2的连接关系,同时也对水分进入下壳2内部起到进一步的阻挡作用。

如图2所示,本实用新型还提出一种使用上述双重防水结构的手机,包括:壳体,设于壳体内的电池5、主板6和显示屏,显示屏包括触摸屏6和液晶屏7,壳体由上壳1和下壳2固定连接构成。壳体还排布有对讲天线8、摄像头和SIM卡座9等,下壳2的外壁上还设有装饰件23,手机整机采用螺丝固定安装。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市新角度科技发展有限公司,未经深圳市新角度科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201520370226.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top