[实用新型]具有分隔的供气管线的等离子体处理腔室及等离子体处理系统

权利要求书

1.一种等离子体处理腔室，包括：

第一前驱物源和第二前驱物源，所述第一前驱物源和所述第二前驱物源通过第一进料管线和第二进料管线耦接到设置在所述腔室上的远程等离子体源，所述第一前驱物源和所述第二前驱物源中的一者包含六甲基二硅氧烷流体；以及

第三前驱物源，所述第三前驱物源包含含氟气体，所述第三前驱物源通过与所述第一进料管线和所述第二进料管线分隔的第三进料管线耦接到在所述远程等离子体源和所述腔室之间延伸的输出导管。

2.如权利要求1所述的腔室，其中所述第一进料管线或者所述第二进料管线中的一者包括蒸发器。

3.如权利要求1所述的腔室，其中所述第一进料管线或者所述第二进料管线中的一者包括加热器。

4.如权利要求1所述的腔室，其中所述输出导管包括混合区块的第一导管。

5.如权利要求4所述的腔室，其中所述混合区块包括耦接到所述混合区块的第二导管。

6.如权利要求5所述的腔室，其中所述第二导管包括凸缘，所述凸缘耦接到所述第三进料管线。

7.如权利要求6所述的腔室，其中所述凸缘包括穿孔板。

8.如权利要求7所述的腔室，其中所述穿孔板包括多个通孔，所述通孔中的至少一部分相对于所述穿孔板的纵轴倾斜。

9.如权利要求8所述的腔室，其中通孔的所述部分相对于所述纵轴以40度到50度倾斜。

10.如权利要求1所述的腔室，其中所述第一进料管线和所述第二进料管线耦接到设置在所述远程等离子体源与所述第一前驱物源和所述第二前驱物源之间的混合区块。

11.一种等离子体处理腔室，包括：

第一前驱物源和第二前驱物源，所述第一前驱物源和所述第二前驱物源通过第一进料导管和第二进料导管耦接到设置在所述腔室上的远程等离子体源，所述第一前驱物源和所述第二前驱物源中的一者包含六甲基二硅氧烷流体；

蒸发器，所述蒸发器耦接到所述进料导管，所述进料导管耦接到包含所述六甲基二硅氧烷流体的所述前驱物来源；以及

第三前驱物源，所述第三前驱物源包含含氟气体，所述第三前驱物源通过与所述第一进料导管和所述第二进料导管分隔的第三进料导管耦接到在所述远程等离子体源和所述腔室之间延伸的输出导管。

12.如权利要求11所述的腔室，其中所述第一进料导管和所述第二进料导管耦接到设置在所述远程等离子体源与所述第一前驱物源和所述第二前驱物源之间的混合区块。

13.如权利要求11所述的腔室，其中所述输出导管包括混合区块的第一导管。

14.如权利要求13所述的腔室，其中所述混合区块包括耦接到所述混合区块的第二导管。

15.如权利要求14所述的腔室，其中所述第二导管包括凸缘，所述凸缘耦接到所述第三进料导管。

16.如权利要求15所述的腔室，其中所述凸缘包括穿孔板。

17.如权利要求16所述的腔室，其中所述穿孔板包括多个通孔，所述通孔中的至少一部分相对于所述穿孔板的纵轴倾斜。

18.如权利要求17所述的腔室，其中通孔的所述部分相对于所述纵轴以40度到50度倾斜。

19.一种等离子体处理系统，包括：

腔室；

第一电极，所述第一电极设置在所述腔室内，所述第一电极促进所述腔室内的等离子体产生并且可相对于所述腔室内的第二电极移动；

第一前驱物源和第二前驱物源，所述第一前驱物源和所述第二前驱物源通过第一进料导管和第二进料导管耦接到设置在所述腔室上的远程等离子体源，所述第一前驱物源和所述第二前驱物源中的一者包含六甲基二硅氧烷流体；以及

第三前驱物源，所述第三前驱物源包含含氟气体，所述第三前驱物源通过与所述第一进料导管和所述第二进料导管分隔的第三进料导管耦接到在所述远程等离子体源和所述腔室之间延伸的输出导管。

20.如权利要求19所述的系统，其中所述输出导管包括混合区块的第一导管。

21.如权利要求20所述的系统，其中所述混合区块包括耦接到所述混合区块的第二导管。