[实用新型]一种真空灭弧室有效
申请号: | 201520338624.4 | 申请日: | 2015-05-23 |
公开(公告)号: | CN204577319U | 公开(公告)日: | 2015-08-19 |
发明(设计)人: | 吴或龙 | 申请(专利权)人: | 浙江森光电气科技有限公司 |
主分类号: | H01H33/664 | 分类号: | H01H33/664 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 325608 浙江省温州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 灭弧室 | ||
1.一种真空灭弧室,包括静触头、静端盖、陶瓷外壳、屏蔽罩、动触头和动端盖;所述静触头焊接于静端盖上;所述静端盖焊接于陶瓷外壳的上端;所述屏蔽罩的一端焊接于静端盖上;所述动端盖滑动连接于屏蔽罩内;所述动触头焊接在动端盖上且所述动触头朝向所述屏蔽罩的内部;其特征是:所述屏蔽罩朝向动端盖的端部上卡接有定位环;所述定位环的内环壁抵接于屏蔽罩且所述定位环的外环壁抵接于陶瓷外壳上。
2.根据权利要求1所述的真空灭弧室,其特征是:所述定位环的内环壁上延伸有若干均朝向环心的定位齿;所述屏蔽罩上开设有若干与定位齿一一对应并相互适配的定位槽。
3.根据权利要求2所述的真空灭弧室,其特征是:若干所述定位齿均匀分布于定位环的内环壁上。
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